Патенты автора ГРИН Бен Льюлин (GB)
Изобретение относится к СВЧ-плазменному реактору для изготовления синтетического алмазного материала посредством химического парофазного осаждения. Устройство содержит плазменную камеру, ограничивающую резонатор для поддержки основной СВЧ-резонансной моды с частотой f основной СВЧ-резонансной моды, множество источников СВЧ-излучения, связанных с плазменной камерой, для генерации и подачи СВЧ-излучения с суммарной СВЧ-мощностью PT в плазменную камеру, систему газоходов для подачи технологических газов в плазменную камеру и их отвода из нее. Также предусмотрено наличие подложкодержателя, расположенного в плазменной камере и содержащего опорную поверхность для поддержки подложки, на которой при применении должен осаждаться синтетический алмазный материал. При этом множество источников СВЧ-излучения выполнены с возможностью ввода по меньшей мере 30% суммарной СВЧ-мощности PT в плазменную камеру на частоте f основной СВЧ-резонансной моды. По меньшей мере некоторые из множества источников СВЧ-излучения являются твердотельными источниками СВЧ-излучения. Техническим результатом является стимуляция CVD-осаждения алмазов при сочетании энергоэффективности, повышении скорости роста, площади роста и чистоты получаемого продукта. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 2 ил.
