Патенты автора Яловик Михаил Степанович (RU)
Изобретение относится к очистке и обеззараживанию воды с помощью ультрафиолетового излучения. Устройство фотохимической обработки для установок очистки и обеззараживания воды содержит каскад непрерывного облучения в виде фотохимического реактора 2 на основе одной или нескольких ультрафиолетовых ламп на парах ртути и блока управления, подключенного к лампам через коммутатор 5. В потоке обрабатываемой воды установлены по крайней мере один каскад импульсного облучения, подключенный к блоку управления 24, и анализатор загрязнений 23. Каскад импульсного облучения содержит фотохимический реактор 2 на основе источников ультрафиолетового излучения в виде импульсных ксеноновых ламп 8, блок питания 9 с зарядным устройством 11, накопительным конденсатором 10, блоком поджига 12 и схемой синхронизации 13. Анализатор загрязнений 23 выполнен с возможностью контроля концентрации загрязнений и передачи выходных сигналов в блок управления 24. Блок управления 24 выполнен с возможностью формирования управляющих импульсов на каскады импульсного облучения с возможностью увеличения или снижения их частоты, а также с возможностью изменения частоты управляющих импульсов на каскады импульсного облучения с задержкой относительно предыдущего изменения частоты управляющих импульсов на величину tзад, которая выбрана из неравенства , где Vi∑ - суммарный объем фотохимических реакторов и соединительных трубопроводов от i-го каскада импульсного облучения до анализатора загрязнений, м3; Q - объемный расход обрабатываемой воды, м3/с. Изобретение позволяет повысить производительность, степень обеззараживания и очистки воды, а также повысить функциональные возможности устройства. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.
Группа изобретений относится к области ядерной энергетики. Способ очистки жидких радиоактивных отходов (ЖРО) предусматривает предварительную фильтрацию, озонирование, дозированное введение в кубовый остаток ЖРО перекиси водорода, обработку кубового остатка импульсным ультрафиолетовым излучением сплошного спектра, микрофильтрацию с отделением шлама, содержащего радиоактивный кобальт, железо, марганец, и сорбцию для удаления радиоактивного цезия. Обработку кубового остатка ЖРО импульсами ультрафиолетового излучения совмещают с воздействием импульсного магнитного поля напряженностью, при этом импульсы ультрафиолетового излучения и импульсы магнитного поля формируют синхронно. Имеется также устройство для осуществления способа очистки ЖРО. Группа изобретений позволяет повысить степень очистки ЖРО. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.
Изобретение относится к области защиты промышленных, государственных и военных объектов от управляемого оружия с оптико-электронными системами наведения путем создания импульсной высокочастотной оптической помехи. Способ предусматривает обнаружение угрозы атаки защищаемого объекта, определение направления атаки и формирование импульсов помехового направленного излучения. Угрозу атаки определяют радиолокационными средствами, помеховое излучение направляют непосредственно на атакующий элемент и включают до начала облучения защищаемого объекта лазерным целеуказателем. Помеховое излучение формируют в виде последовательности импульсов некогерентного излучения сплошного спектра с частотой повторения не менее 100 Гц. Изобретение направлено на повышение надежности защиты. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.
СПОСОБ ОЧИСТКИ ЖИДКИХ РАДИОАКТИВНЫХ ОТХОДОВ // 2560837
Изобретение относится к способу очистки жидких радиоактивных отходов (ЖРО). Заявленный способ предусматривает дозированное введение в кубовый остаток ЖРО перекиси водорода, обработку кубового остатка УФ-излучением ксеноновой лампы, микрофильтрацию с отделением шлама, содержащего радиоактивный кобальт, железо, марганец, и сорбцию для удаления радиоактивного цезия. При этом кубовый остаток ЖРО предварительно фильтруют на сетчатом фильтрующем материале, затем озонируют в контактной камере противоточного типа, а обработку УФ-излучением ксеноновой лампы осуществляют импульсами длительностью 10…500 мкс, при этом используют УФ-излучение сплошного спектра с интегральной плотностью излучения на поверхности ксеноновой лампы в спектральном диапазоне 190…300 нм не менее 1·107 Вт/м2. Техническим результатом является повышение эффективности и производительности процесса очистки ЖРО от радионуклидов и активированных продуктов коррозии. 8 з.п. ф-лы, 1 ил., 4 табл.
Изобретение относится к технологии обеззражаивания сыпучих продуктов и может быть использовано в пищевой промышленности, фармакологии и других отраслях
