Патенты автора Камилов Ибрагимхан Камилович (RU)
Изобретение относится к области измельчения различных материалов сложного состава, в частности диспергирования сложных неорганических соединений. Материал размалывают в атмосфере заданного состава. Материал в процессе размалывания облучают излучением. Излучение содержит фотоны с энергией от 0,9E до 1,1E, где E - энергия активации десорбции по крайней мере одного компонента измельчаемого материала. Изобретение снижает длительность и энергоемкость процесса диспергирования и создает возможность управления стехиометрией материала сложного состава.
МИШЕНЬ ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ // 2568554
Мишень для ионно-плазменного распыления выполнена на основе оксида металла и содержит углерод. Концентрация углерода в мишени выбрана из условия обеспечения при температуре распыления теплового эффекта от экзотермической реакции при окислении углерода кислородом оксида металла и свободным кислородом в зоне распыления, меньшего интегрального теплоотвода в упомянутой зоне, и составляет 0,1-20 ат.% . Оксидом металла является оксид цинка. Изобретение позволяет улучшить характеристики наносимых слоев, повысить степень использования мишеней и уменьшить энергетические затраты при распылении. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии, а именно к технологии получения прозрачных проводящих слоев на основе оксида цинка, легированного галлием или алюминием. На подложке формируют промежуточный и основной слои на основе оксида цинка, легированного галлием или алюминием. Промежуточный слой формируют с концентрацией легирующего компонента в интервале от значения, которое совпадает с концентрацией в основном слое, до 20 ат.%. В частных случаях осуществления изобретения перед нанесением основного слоя промежуточный слой подвергают выдержке от 5 минут до 2 часов при температуре от 200°С до 500°С. Промежуточный слой выполняют сплошным или островковым. Формирование слоев проводят в проходных магнетронных установках и в качестве мишени используют секционированную мишень, в которой часть мишени, находящаяся со стороны входящей в установку подложки, содержит более высокое содержание легирующего компонента, чем в остальной части мишени. Уменьшается суммарное время нанесения подслоя и основного слоя, обеспечивается управление рельефом синтезируемого слоя и исключается использование материалов, отличных от материалов, входящих в основной слой. 4 з.п. ф-лы, 1 пр.
Изобретение относится к области производства керамических материалов и предназначено для использования при изготовлении мишеней на основе оксида цинка, являющихся источником материала для магнетронного, электронно-лучевого, ионно-лучевого и других методов нанесения пленок в микро-, опто-, наноэлектронике
ПЕЧЬ ДЛЯ ТЕРМООБРАБОТКИ // 2439454
Изобретение относится к печи для термообработки керамических изделий
Изобретение относится к узлам и деталям машин, в частности подшипникам скольжения, например, двигателя внутреннего сгорания
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК // 2307713
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначен для магнетронного, электронно-лучевого и других методов нанесения пленок в микро-, опто-, наноэлектронике
СПОСОБ СИНТЕЗА КЕРАМИКИ // 2280015
Изобретение относится к области производства керамических материалов и предназначено для использования при изготовлении керамических мишеней, являющихся источником материала для магнетронного, электронно-лучевого, ионно-лучевого и других методов нанесения пленок в микро-, опто-, наноэлектронике
