Патенты автора Ветров Василий Николаевич (RU)
Изобретение относится к технологии получения менисков, оболочек и заготовок линз оптических систем современных оптических, оптоэлектронных и лазерных приборов, работающих в ультрафиолетовой, видимой и ИК-областях спектров, и может быть использовано для получения выпукло-вогнутых линз из кристаллов фтористого лития. Способ заключается в изготовлении заготовок путем пластической деформации дисков кристаллов фтористого лития, вырезанных из пластин, перпендикулярных кристаллографическим осям 3-го или 4-го порядка, при этом пластическую деформацию осуществляют в вакууме полусферическим пуансоном с радиусом Rп в изотермических условиях при температуре 680-710°С с постоянной скоростью 2-5 мм/с в матрице с радиусом рабочей поверхности R=(Rп+rм)sin β, где Rп - радиус пуансона, rм - радиус плеча матрицы, а β - центральный угол - половина угловой апертуры заготовки, до стрелы прогиба h≤(1-cos β)⋅(Rп+rм), далее охлаждают до температуры 400°С со скоростью не более 5°С/мин. Технический результат - получение менисков из кристаллов фтористого лития высокого оптического качества. 2 пр.
Способ получения кварцевой керамики // 2650970
Изобретение относится к технологии керамических материалов из кварцевой керамики с повышенной прочностью на изгиб, позволяющей изготавливать керамические экраны для приборов разного назначения и огнеупорные керамические изделия. Технический результат изобретения - повышение механической прочности (прочности на изгиб) кварцевой керамики, полученной методом шликерного литья. Способ получения кварцевой керамики включает изготовление водного шликера из кварца плотностью 1,75-1,86 г/см3, формирование заготовок методом отлива в гипсовые формы, сушку сырых заготовок не менее 24 часов при комнатной температуре, последующую термообработку. Термообработку проводят в установке с графитовым нагревателем при температуре 1300-1400°С в течение 0,2-1,0 часа в вакууме 0,7-1,5 мм рт.ст при скорости нагрева не более 10 град/мин, после чего охлаждают от 1300-1400 до 1000°С со скоростью охлаждения 5-10 град/мин с последующим инерционным охлаждением. Из кварцевой крупки готовят водный шликер с плотностью 1,75-1,83 г/см3, а из боя кварцевого стекла с плотностью 1,79-1,86 г/см3. 2 з.п. ф-лы, 2 пр.
Изобретение может быть использовано при изготовлении линз из лейкосапфира для оптических систем, работающих в ультрафиолетовой, видимой и ИК областях спектров. Способ включает изготовление вогнуто-выпуклой заготовки путем пластической деформации изгиба плоскопараллельной пластинки из Z-среза кристалла. Деформируют исходную плоскопараллельную пластину диаметром D, который составляет более 1,5d диаметра линзы, и толщиной H=2h, где h - толщина линзы, пуансоном радиуса R=((d/2)/0,3)-H. Формируют линзу в виде плоскопараллельной пластинки с помощью методов удаления с заготовки избыточного слоя материала, причем входящую поверхность линзы формируют с выпуклой стороны заготовки, удаляя ½ ее толщины по оси симметрии перпендикулярно последней. С вогнутой стороны заготовки центральная точка на второй плоской поверхности линзы должна находится на оси симметрии заготовки. Далее деталь округляют до диаметра линзы d мм, совмещая ось симметрии заготовки и оптическую ось линзы. Технический результат - получение минимального двулучепреломления в области 25000-2000 см-1 для параллельного пучка света, направленного перпендикулярно входящей поверхности линзы. 1 ил.
Изобретение может быть использовано при изготовлении асферических линз, применяемых в оптических системах, работающих в ультрафиолетовой, видимой и ИК-областях спектра. Способ включает изготовление заготовки в форме полусферы или полусферического сегмента путем пластической деформации плоскопараллельной пластинки из Z-среза кристалла, формирование асферической входящей поверхности линзы путем удаления с заготовки материала согласно уравнению осевого сечения поверхности следующего вида:
где x1=x/R - координата, совпадающая с осью симметрии детали и осью вращения, y1(x1)=y/R - координата, перпендикулярная x1, R - радиус входящей поверхности заготовки линзы, n1, n2 - показатели преломления обыкновенных лучей при коротковолновой и длинноволновой границах длины волны излучения, соответственно. Вогнутая поверхность линзы - полусфера с радиусом r=R-h, где h - толщина заготовки. Технический результат - получение минимальной частотной дисперсии двулучепреломления в диапазоне прозрачности материала для немонохроматического пучка света. 1 ил.
Изобретение относится к технологии линз для оптических систем современных оптических и оптоэлектронных приборов, работающих в ультрафиолетовой, видимой и ИК-областях спектров, и может быть использовано при получении плоских линз из лейкосапфира для необыкновенного луча
Изобретение относится к технологии линз для оптических систем современных оптоэлектронных и оптических приборов, работающих в ультрафиолетовой, видимой и ИК областях спектров, и может быть использовано при получении полусферических линз из лейкосапфира
Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов для пассивных лазерных затворов, используемых в современных лазерах, работающих в ИК-области спектра
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ГАЛЛИЙ-СКАНДИЙ-ГАДОЛИНИЕВЫХ ГРАНАТОВ ДЛЯ ПАССИВНЫХ ЛАЗЕРНЫХ ЗАТВОРОВ // 2321689
Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов для пассивных лазерных затворов, используемых в современных лазерах, работающих в ИК-области спектра
Изобретение относится к технологии получения линз оптических систем современных оптических и оптоэлектронных приборов, работающих в видимой и ИК-области спектров, и может быть использовано при получении линз из лейкосапфира и других одноосных кристаллов
Изобретение относится к технологии линз оптических систем современных оптических и оптоэлектронных приборов, работающих в видимой и ИК-областей спектров, и может быть использовано при получении линз из лейкосапфира, в частности, в сходящемся пучке лучей
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ЛИНЗ // 2285757
Изобретение относится к технологии линз оптических систем для современных оптических и оптоэлектронных приборов, работающих в видимой и ИК-областях спектров, и может быть использовано при получении линз из лейкосапфира и других одноосных кристаллов
