Патенты автора Колпаков Анатолий Иванович (RU)
Изобретение относится к области получения направленных потоков низкотемпературной плазмы с большим током и может быть использовано в микроэлектронике при производстве интегральных микросхем на активных и пассивных подложках и в дифракционной оптике при производстве элементов дифракционной оптики. Генератор широкоаппертурного потока газоразрядной плазмы содержит полый катод с основанием, установленный коаксиально в полую изоляцию и закрыт крышкой так, что высота полости полого катода определена соотношением 3λ<L<5λ, где λ - длина свободного пробега электрона в потоке газоразрядной плазмы. Основания анода и катода выполнены перфорированными, толщина изоляции между полым анодом и полым катодом определена соотношением 0,5d<h<d, где d - диаметр соосно расположенных отверстий в основаниях анода и катода. Технический результат- повышение равномерности распределения частиц по сечению потока и упрощение конструкции. 2 ил.
Изобретение относится к измерительной технике в области микроэлектроники и предназначено для измерения чистоты поверхности подложек
Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано в диагностике параметров потоков заряженных частиц
Изобретение относится к испарителю многокомпонентных растворов и может быть использовано для формирования тонких пленок двойных, тройных и более сложных растворов
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных микросхем на активных и пассивных подложках и элементов дифракционной оптики на криволинейных поверхностях
Изобретение относится к области получения направленных потоков микросхем на активных и пассивных подложках и в дифракционной оптике низкотемпературной плазмы и генерации ионных пучков с большим током и может быть использовано в микроэлектронике при производстве интегральных микросхем, при производстве элементов дифракционной оптики
Изобретение относится к области измерительной техники
Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано в авиационной и космической технике при производстве летательных аппаратов
Изобретение относится к области электропитания высоковольтных устройств, формирующих потоки низкотемпературной плазмы, и может быть использовано в микроэлектронике и дифракционной оптике при производстве интегральных микросхем и дифракционных решеток