Патенты автора Лабусов Владимир Александрович (RU)
Изобретение относится к области атомно-эмиссионного спектрального анализа и касается способа определения содержания элементов и форм их присутствия в дисперсной пробе и ее гранулометрического состава. Способ включает в себя ввод пробы в факел плазмы, регистрацию последовательности атомно-эмиссионных спектров во время поступления пробы в плазму и вычисление интенсивностей аналитических спектральных линий с учетом фона под линиями всех искомых элементов в зависимости от времени поступления пробы в факел плазмы. В качестве источника плазмы используют энергию СВЧ нагрева нескольких последовательно расположенных и независимо управляемых друг от друга источников на основе СВЧ плазмотронов с тороидальной плазмой атмосферного давления. Регистрацию спектров производят многоэлементным фотодетектором в сцинтилляционном и/или интегральном режиме. Технический результат заключается в повышении эффективности использования пробы при измерении в широком диапазоне валовых содержаний аналитов, повышении точности измерений и обеспечении возможности проведения исследований на месте взятия проб. 3 з.п. ф-лы, 4 ил., 4 табл.
Изобретение относится к вакуумной технике, а именно к установкам для напыления многослойных покрытий нанометровой толщины, используемых, например, в качестве спектральных фильтров для оптических приборов в приборостроении, и может быть использовано для напыления покрытий со строго заданной толщиной и полосой пропускания оптического спектра. Заявляется способ измерения толщин нанометровых слоев многослойного покрытия, проводимого в процессе его напыления, включающий измерение спектра пропускания нанесенного на контрольную подложку покрытия в широком спектральном диапазоне и вычисление толщины напыляемого слоя. Новым является то, что в качестве контрольной подложки используют подложку с предварительно нанесенным слоем достаточной толщины, чтобы в спектральной зависимости отражения и/или пропускания от подложки с предварительно нанесенным слоем появился хотя бы один локальный экстремум или хотя бы одна точка перегиба, при этом само измерение толщины слоя может быть проведено как в режиме измерения спектра отражения, так и в режиме измерения спектра пропускания. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.
Изобретение относится к атомно-эмиссионному спектральному анализу
Изобретение относится к аналитическому приборостроению, к приборам для атомно-эмиссионного спектрального анализа веществ и материалов, а именно к источникам возбуждения атомно-эмиссионных спектров анализируемых проб
