Патенты автора Озур Григорий Евгеньевич (RU)
Изобретение относится к области модификации поверхностных слоев материалов импульсными электронными пучками и может быть использовано для улучшения их физико-химических свойств (коррозионной стойкости, жаростойкости и др.). Технический результат - повышение эксплуатационных характеристик обрабатываемых изделий, например массивных кристаллизаторов, электродов высоковольтных вакуумных выключателей и др. Устройство содержит сильноточную электронную пушку, содержащую взрывоэмиссионный катод 1, кольцевой анод 2, импульсный соленоид 3, обеспечивающий транспортировку электронного пучка и обрабатываемое электронным пучком изделие. Установка перед обрабатываемым изделием (6.1-6.2) дополнительного постоянного магнита 7 в виде рамки или кольца, при этом направление вектора магнитной индукции на поверхности магнита, обращенной к катоду пушки, противоположно направлению вектора магнитной индукции поля, создаваемого импульсным соленоидом, позволяет устранить дефокусировку пучка, вызванную частичным вытеснением импульсного ведущего магнитного поля из обрабатываемого изделия вследствие скин-эффекта, обеспечивая плотность энергии электронного пучка, достаточную для импульсного плавления поверхностного слоя изделия. 3 ил.
Изобретение относится к химико-фармацевтической промышленности и представляет собой способ синтеза рентгеноконтрастного поверхностного Ti-Ta-Ni сплава с аморфной или аморфно-нанокристаллической структурой на подложке из TiNi сплава, осуществляемый аддитивным методом путем многократного чередования в едином вакуумном цикле операций осаждения аморфообразующей пленки и ее жидкофазного перемешивания с компонентами подложки, отличающийся тем, что в качестве аморфообразующей пленки, осаждаемой c помощью одновременного магнетронного распыления мишеней из Ti и Ta, используют пленку состава Ti60-70Ta40-30 (ат.%), а последующее жидкофазное перемешивание компонентов пленки и подложки и высокоскоростную закалку расплавленного поверхностного слоя осуществляют с помощью широкоапертурного низкоэнергетического сильноточного электронного пучка (НСЭП) с параметрами: длительность импульса 2 ÷ 3 мкс, плотность энергии 1.5 ÷ 2.5 Дж/см2. Изобретение позволяет синтезировать поверхностный Ti-Ta-Ni сплав с аморфной или аморфно-нанокристаллической структурой на TiNi подложке с повышенным уровнем рентгеноконтрастности и тромборезистентности. 5 з.п. ф-лы, 6 ил., 2 табл., 4 пр.
СИЛЬНОТОЧНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ ПУШКА // 2446504
Изобретение относится к технике генерирования сильноточных электронных пучков и может быть использовано для создания импульсных сильноточных электронных ускорителей, а также для поверхностной обработки материалов и изделий этими пучками
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОДОВ ИЗОЛИРУЮЩИХ ПРОМЕЖУТКОВ ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ ЭЛЕКТРОВАКУУМНЫХ ПРИБОРОВ // 2384911
Изобретение относится к технике высоких напряжений, в частности к технике электрической изоляции в вакууме, и может быть использовано в высоковольтных электровакуумных приборах с целью улучшения их эксплуатационных характеристик
СИЛЬНОТОЧНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ ПУШКА // 2313848
Изобретение относится к технике генерирования сильноточных электронных пучков и может быть использовано для создания импульсных сильноточных электронных ускорителей, а также для поверхностной обработки материалов и изделий
