Патенты автора Закревский Дмитрий Эдуардович (RU)

Группа изобретений относится к медицине, а именно к способу воздействия холодной плазменной струей на биологический объект и установке для его реализации. При этом осуществляют прокачку через генератор плазменной струи по диэлектрическому каналу рабочего газа, подаваемого в канал через входное отверстие. Зажигают в канале газовый разряд посредством электродов, образующих разрядную структуру. Подают на электроды высоковольтное напряжение, обеспечивая разряд и формирование плазмы и получая истекающую из выходного отверстия канала плазменную струю. Направляют плазменную струю на объект. Воздействуют на объект активными формами - радикалами и/или ионами, генерируемыми в результате газового разряда. В пространственном промежутке, в котором локализована истекающая плазменная струя и расположен объект воздействия, создают электрическое поле с возможностью изменения распределения существующего электрического поля в направлении, параллельном направлению распространения струи. Изменением распределения электрического поля в пространственном промежутке управляют распределением электронов по энергии. Установка содержит систему подачи рабочего газа, высоковольтный источник питания, генератор плазменной струи с диэлектрическим трубчатообразным корпусом с внутренним объемом, в котором реализован канал для прокачки рабочего газа, зажигания в нем газового разряда и формирования плазмы, сообщающийся с системой подачи рабочего газа через входное отверстие в корпусе. Генератор плазменной струи оснащен разрядной структурой в составе высоковольтных разрядных электродов, электрически соединенных с высоковольтным источником питания с возможностью образования разрядной цепи. Один из электродов расположен вне корпуса с возможностью его опоясывания, а другой электрод - во внутреннем объеме корпуса. Установка оснащена вспомогательным электродом, приведенным в контакт с объектом воздействия и расположенным на требуемом расстоянии относительно выходного отверстия для истечения плазменной струи, задающем пространственный промежуток, в котором расположены истекающая плазменная струя и объект воздействия. Кроме того, установка может быть оснащена парой вспомогательных электродов, один из которых, как указано, приведен в контакт с объектом воздействия и расположен на расстоянии от выходного отверстия, задавая указанный промежуток, а второй опоясывает плазменную струю, обеспечивая прохождение её через него без взаимодействия с ним, с сохранением эффективности влияния поданного на него потенциала в отношении электрического поля промежутка. Достигается управление количественным содержанием активных форм (радикалов, ионов, радикалов и/или ионов) в холодной плазменной струе, управление распределением активных форм по длине струи, а также управление составом активных форм, оказывающих доминирующее воздействие на объект. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 13 ил., 15 пр.

Газоразрядный коммутатор относится к электронной технике и может быть использован при создании импульсных устройств. В корпусе коммутатора расположена первая разрядная структура в составе катода и сетчатого анода, которые установлены друг относительно друга с зазором эквидистантно. На оси первой разрядной структуры расположена вторая разрядная структура в составе катода указанной первой разрядной структуры и расположенного вне корпуса диэлектрической капиллярной структуры анода коммутатора. Диэлектрическая капиллярная структура реализована в виде диэлектрического тела со сквозным отверстием, обеспечивающим протекание через структуру объемного электрического тока и характеризующимся дискретно-переменным размером площади поперечного сечения, принимающим значения s1 и s2 с s1>s2, выполненным в количестве j участков с поперечным сечением площадью s1 и i участков с поперечным сечением площадью s2, чередующихся друг относительно друга с формированием за счет участков с поперечным сечением меньшего размера s2 проводящего электрический ток разрядного капиллярного канала, а за счет участков с поперечным сечением большего размера расширений канала в направлении, перпендикулярном оси первой разрядной структуры. В отношении сквозного отверстия каждый i-й и (i+1)-й участки смещены друг относительно друга в направлении, перпендикулярном оси первой разрядной структуры, с выполнением смещения между ними с возможностью исключения наложения проекций при прямоугольном проецировании их поперечных сечений на плоскость, относительно которой ось первой разрядной структуры перпендикулярна. Диэлектрическая капиллярная структура установлена в отверстии в торце корпуса и снабжена примыкающим к ней металлическим экраном, опоясывающим ее с внешней стороны. С выходом сквозного отверстия состыкован анод коммутатора. Технический результат - увеличение степени сжатия первичного импульса, повышение частоты следования импульсов до сотен кГц при сохранении степени сжатия импульса и сохранении субнаносекундной длительности переднего фронта коммутируемого импульса; снижение времени коммутации. 6 з.п. ф-лы, 9 ил.

Газоразрядный коммутатор относится к электронной технике, может быть использован при создании импульсных устройств. Коммутатор содержит корпус, выполненный с возможностью заполнения его рабочим газом и герметизации, с формированием в нем разрядной области между высоковольтными электродами -коаксиальными катодом и анодом. Катод выполнен в виде обечайки, охватывающей разрядную область, анод - в виде сетки. Катод и анод в виде сетки установлены с зазором относительно друг друга и представляют собой разрядную структуру, обеспечивающую разрядный промежуток. В корпусе расположена для формирования дополнительного разрядного промежутка вторая разрядная структура в составе катода указанной первой разрядной структуры и снабженной дополнительным анодом диэлектрической капиллярной структуры. Последняя выполнена в виде диэлектрического тела со сквозным отверстием дискретно-переменного диаметра, являющимся разрядным каналом, с периодическим чередованием участков отверстия диаметром d1 и участков отверстия диаметром d2, где d2<d1. За счет наличия участков с диаметром d2 образован капиллярный канал с осью, совпадающей с осью первой разрядной структуры. Дополнительный анод установлен в одном из торцов корпуса в выполненном в этих целях отверстии на оси катода в виде обечайки и анода в виде сетки с примыканием к выходу сквозного отверстия дискретно-переменного диаметра. Технический результат - увеличение степени сжатия первичного импульса и повышение частоты следования импульсов до десятков кГц при увеличении степени сжатия импульса и сохранении субнаносекундной длительности переднего фронта коммутируемого импульса. 4 з.п. ф-лы, 6 ил.

Плазменный коммутатор относится к электронной технике и может быть, в частности, использован при создании импульсных генераторов, источников питания импульсных устройств, импульсных лазеров. Плазменный коммутатор содержит герметизируемую камеру, заполненную рабочим газом, с катодом и сетчатым анодом. Сетчатый анод выполнен с поверхностью, эквидистантной внутренней поверхности катода, а катод - в составе пластин катода, расположенных напротив друг друга с зазором. Технический результат - повышение скорости коммутации, увеличение скорости нарастания плотности тока и общего тока. 6 з.п. ф-лы, 5 ил.

Газоразрядный коммутатор относится к электронной технике и может быть, в частности, использован при создании импульсных генераторов, источников питания импульсных устройств, импульсных лазеров. Содержит газонаполненный герметичный корпус с расположенными в нем катодом и анодом, выполненными, соответственно, в виде обечайки, охватывающей разрядную область, и в виде сетки, с зазором друг относительно друга. В корпусе между электрическими вводами катода и анода установлен изолятор. Корпус заполнен рабочим газом в составе гелия и/или неона с добавками водорода в количествах, приводящих к преимущественной ионизации водорода, с давлением от 0,05 до 0,5 Торр. Технический результат - за счет указанных добавок водорода в рабочий газ обеспечивается повышение скорости коммутации и достижение возможности коммутации высоковольтных электрических импульсов с субнаносекундным фронтом нарастания. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке или изготовлении газовых лазеров, в том числе, лазеров на парах металлов, с поперечной накачкой, работающих как в режиме генерации, так и в режиме усиления когерентного излучения

Изобретение относится к квантовой электронике и лазерной технологии и может быть использовано в ядерной физике для разделения изотопов

Изобретение относится к квантовой электронике и лазерной технологи и может быть использовано в ядерной физике для разделения изотопов

 


Наверх