Патенты автора Гафаров Илдар Гарифович (RU)
Изобретение относится к способу очистки подложек из ситалла. Способ включает химическую очистку и промывку в деионизованной воде. После промывки в деионизованной воде подложки из ситалла предварительно нагревают в струе высокочастотной плазмы на расстоянии от 60 до 120 мм от среза высокочастотного плазмотрона в течение от 1 мин до 2 мин при мощности ВЧ генератора от 1400 Вт до 1500 Вт изменением расхода технологического газа от 0,04 г/с до 0,06 г/с. Затем проводят очистку подложек из ситалла в струе высокочастотной плазмы в течение от 5 минут до 10 минут при мощности высокочастотного генератора от 1500 Вт до 1750 Вт, расходе плазмообразующего газа от 0,06 до 0,08 г/с, давлении от 19,0 до 26,6 Па с последующим плавным снижением расхода газа от 0,06 г/с до 0,04 г/с в течение от 1 мин до 2 мин. Способ обеспечивает получение чистой гидрофильной поверхности подложек ситалла без загрязнений в виде отдельных частиц или в виде пленки. 3 з.п. ф-лы, 1 табл.
Изобретение относится к плазменной технологии и может быть использовано для получения модифицированных ультрадисперсных порошков в едином технологическом цикле
Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для возбуждения высокочастотного емкостного газового разряда (ВЧЕ-разряда), применяемого для обработки различных изделий высокочастотной низкотемпературной плазмой пониженного давления и в качестве активного элемента газового лазера
Изобретение относится к области охраны окружающей среды и касается производства сорбентов из растительного сырья
Изобретение относится к области получения сорбентов
