Патенты автора Гольденберг Борис Григорьевич (RU)

Изобретение относится к способам формирования структурированного рентгеновского экрана, с помощью которого изображение, переданное в рентгеновских или гамма-лучах, становится контрастным в оптическом диапазоне спектра, и предназначенного для регистрации рентгеновского или гамма-излучения. Технический результат - повышение однородности свечения по площади структурированного экрана. В способе формирования структурированного сцинтиллятора исходный слой гомогенного блочного люминофора структурируют рентгеновским лучом, модулированным по интенсивности рентгеновской маской, непосредственно в кювете с растворителем, а затем заполняют высвобожденное от люминофора пространство металлом. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.

Использование: для селекции электромагнитного излучения. Сущность изобретения заключается в том, что микроструктурный элемент выполнен в виде перфорированной сеточной структуры, объем которой в основном выполнен из полимерной пленки и вся ее поверхность, включая внутренние полости, металлизирована. Технический результат: обеспечение возможности формирования перфорированных пленок в диапазоне толщин от нескольких микрометров до нескольких миллиметров. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к рентгенолитографии, а именно к устройству «рисования» топологических рисунков, пространственно сформированным пучком экспонирующего рентгеновского излучения

Изобретение относится к способу проведения трафаретной сканирующей синхротронной рентгеновской литографии, то есть к способу проведения экспонирования слоев рентгенорезиста или рентгеночувствительного материала, нанесенного на рабочую поверхность обрабатываемой подложки, с использованием рентгеношаблона и пучков синхротронного излучения (СИ), сканирующих рабочее поле рентгеношаблона, и может быть применено в различных вариантах вышеуказанного способа, то есть как в теневой, так и в проекционной трафаретных синхротронных сканирующих рентгеновских литографиях

Изобретение относится к способу проведения трафаретной рентгеновской литографии, начиная с этапа изготовления рентгеношаблона (маски для рентгеновской литографии, рентгенолитографической маски, рентгеновского шаблона), применяемого для проведения трафаретной рентгеновской литографии, и заканчивая этапом проведения экспонирования слоев рентгенорезиста или рентгеночувствительного материала с использованием рентгеношаблона и мощных потоков экспонирующего излучения (ЭИ)

Изобретение относится к измерительной технике

 


Наверх