Изобретение относится к способу проведения трафаретной рентгеновской литографии, начиная с этапа изготовления рентгеношаблона (маски для рентгеновской литографии, рентгенолитографической маски, рентгеновского шаблона), применяемого для проведения трафаретной рентгеновской литографии, и заканчивая этапом проведения экспонирования слоев рентгенорезиста или рентгеночувствительного материала с использованием рентгеношаблона и мощных потоков экспонирующего излучения (ЭИ)