Патенты автора Сергеев Сергей Алексеевич (RU)
СПОСОБ МИНЕРАЛИЗАЦИИ ОРГАНИЧЕСКИХ ВОЛОКОН ПОЛИКАПРОЛАКТОНА МИКРОЧАСТИЦАМИ КАРБОНАТА КАЛЬЦИЯ // 2761321
Изобретение относится к способу производства композитного материала, состоящего из органических волокон поликапролактона, микрочастиц карбоната кальция и наночастиц магнетита. Полученный материал может быть применён в регенерационной медицине, преимущественно в качестве тканеинженерного каркаса. Способ минерализации органических волокон поликапролактона микрочастицами карбоната кальция, модификации ватерит включает добавление раствора магнетита Fe3O4 в волокна поликапролактона, ультразвуковую обработку этой смеси, добавление растворов солей хлорида кальция CaCl2 и карбоната натрия Na2CO3 к смеси, промывку полученного материала этиловым спиртом и его высушивание, при этом растворы солей CaCl2 и Na2CO3 с концентрацией 0,25 - 1,0 М добавляют к смеси в объемном соотношении 1:1:1 (CaCl2: Na2CO3: Fe3O4), не прерывая процесс ультразвуковой обработки, при этом сушку проводят в сушильном шкафу при 43-47°C в течение 10-15 минут, а размер наночастиц магнетита выбирают в диапазоне от 10 до 80 нм. Технический результат заключается в повышении качества получаемого материала при обеспечении достаточной магнитной восприимчивости. 3 з.п. ф-лы.
Изобретение относится к технологии изготовления изделий оптической техники, конкретно к способу удаления фоторезистивных пленок с поверхности оптических стекол, служащих в качестве основной маски при формировании микроэлементов на их поверхности. Технический результат изобретения заключается в обеспечении высокой скорости удаления фоторезистивной пленки с поверхности габаритных по площади и толщине оптических стекол без науглевоживания поверхности. В способе удаления фоторезистивных пленок с поверхности оптических стекол, включающем плазмохимическое травление пластины низкотемпературной плазмой в присутствии атомарного кислорода, согласно изобретению обрабатываемой пластиной является оптическое стекло, а нагрев фоторезистивной пленки до оптимальной температуры травления осуществляется инфракрасным излучателем, расположенным под поверхностью обрабатываемой пластины. 1 ил.
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ОТМЫВКИ И СУШКИ ПОДЛОЖЕК // 2386187
Изобретение относится к технике индивидуальной обработки подложек и может быть использовано при производстве изделий электронной техники, в частности при отмывке и сушке стеклянных подложек для жидкокристаллических экранов, полупроводниковых пластин и фотошаблонов
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУХСТОРОННЕЙ ИНДИВИДУАЛЬНОЙ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК КВАДРАТНОЙ ИЛИ ПРЯМОУГОЛЬНОЙ ФОРМЫ // 2367526
Изобретение относится к производству изделий электронной техники и может быть использовано для двухсторонней обработки стеклянных подложек квадратной или прямоугольной формы, используемых, например, в производстве при изготовлении фотошаблонов, а также жидкокристаллических экранов (ЖКЭ)
