Патенты автора ХИРОНО Такайоси (JP)
Изобретение относится к устройству для вакуумной плазменной обработки гибкого обрабатываемого целевого изделия
Изобретение относится к конвейерным устройствам для перемещения пленочной основы при вакуумной обработке, в частности вакуумном осаждении, с последовательным разматыванием и сматыванием пленочной основы
Изобретение относится к устройству плазмохимического осаждения из паровой фазы намоточного типа для образования слоя покрытия на пленке