Патенты автора КЕППЕЛЕР Йоханнес (DE)

РЕЗЕРВУАР ИСТОЧНИКА ДЛЯ VPE-РЕАКТОРА // 2439215

УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ДЛЯ УПРАВЛЕНИЯ ТЕМПЕРАТУРОЙ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ // 2435873

Изобретение относится к устройству и способу управления температурой поверхности, по меньшей мере, одной подложки, лежащей в технологической камере реактора CVD

РЕАКТОР ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ (CVD-РЕАКТОР) С ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРОЙ, НАГРЕВАЕМОЙ С ПОМОЩЬЮ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ (RF-ИЗЛУЧЕНИЯ) // 2389834

Изобретение относится к аппаратурному оформлению процесса осаждения из газовой фазы кристаллических слоев на кристаллическую подложку