Патенты автора Ребров Алексей Кузьмич (RU)

Изобретение может быть использовано в электронике и оптике. Устройство для нанесения алмазных покрытий содержит вакуумную камеру, в которой расположены разрядная камера 14 и камера осаждения 5, сообщающиеся между собой через коническое сопло 4, вершина которого направлена в разрядную камеру 14, отделённую герметичной диэлектрической вставкой 10 из кварца от атмосферной части, в которой расположен источник СВЧ-излучения - магнетрон. На подложкодержателе, покрытом расплавленным металлом - сплавом Розе, установлена водоохлаждаемая подложка 6. Средство для подачи водорода 1 выполнено с возможностью его подачи непосредственно в разрядную камеру 14. Средство для подачи углеродсодержащего газа выполнено в виде отдельного канала 2 на входе в коническое сопло 4. Изобретение обеспечивает высокую скорость осаждения алмазного покрытия и его высокое качество. 2 ил.

Изобретение может быть использовано для получения алмазных покрытий. В разрядную камеру 14 подают водород 1 и углеродосодержащий газ 2. Полученную смесь активируют с помощью СВЧ разряда с образованием плазменного облака 3. Разрядная камера 14 и камера осаждения 5 отделены друг от друга, но сообщаются между собой через коническое сопло 4. Активированную смесь газов пропускают через коническое сопло 4 в камеру осаждения 5, где с помощью сверхзвуковой струи 8 активированной смеси газов осуществляют процесс осаждения и образования кристаллов алмаза на поверхности водоохлаждаемой подложки 6. На поверхность подложкодержателя сначала наносят расплавленный металл - сплав Розе, а затем устанавливают подложку 6. Перед осаждением поверхность подложки 6 очищают и обрабатывают атомарным водородом без выноса подложки в атмосферу. Водород 1 подают непосредственно в разрядную камеру 14, а углеродсодержащий газ подают в отдельный канал 2 на входе в коническое сопло 4. Обеспечиваются высокая скорость осаждения и повышается качество алмазных плёнок. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение может быть использовано в средствах получения и поддержания высокого вакуума. Диффузионный высоковакуумный насос содержит корпус, нагревательный котел (5) для рабочей парообразующей жидкости и нагреватель (6). Нагревательный котел (5) для рабочей парообразующей жидкости размещен в нижней части (3) корпуса. Нагреватель (6) выполнен из греющего кабеля, изготовленного в форме спирали, и размещен на дне котла (5). Нагреватель (6) состоит из двух рядов греющего кабеля, которые зафиксированы в четырех направляющих, выполненных из нержавеющей стали. Дно котла (5) выполнено без использования прямоугольного канала для размещения греющего кабеля. Нагреватель (6) со всех сторон омывается рабочей жидкостью. Технический результат заключается в снижении тепловых потерь при подготовке пара в котле, а также в улучшении теплообмена между греющей поверхностью и рабочей жидкостью. 3 ил.

Изобретение относится к вакуумным насосам. Диффузионный вакуумный насос содержит разъемный корпус с входным и выходным патрубками. Нагревательный котел для рабочей парообразующей жидкости размещен в нижней части корпуса. Нагреватель размещен по оси корпуса. Многоступенчатый паропровод с зонтичными соплами имеет вставки. Трубка для быстрого охлаждения рабочей жидкости установлена на дно котла по внешнему периметру спирального нагревателя. Экран размещён в нижней части корпуса и закрывает основание паропровода. Насос имеет трубку для поддержания форвакуумного давления в полости между котлом и корпусом насоса. Конусная (составная) вставка установлена вакуумно-плотно и формирует проточную часть канала. Отношение диаметра сопла первой ступени к диаметру входного отверстия насоса находится в диапазоне 1,35-1,45. Техническим результатом является уменьшение обратного потока паров рабочей жидкости в откачиваемый объём, минимизация тепловых потерь, обеспечение быстрого охлаждения рабочей жидкости, находящейся в котле, и аварийной остановки насоса при внезапной разгерметизации. 3 ил.

Изобретение относится к области получения искусственных алмазов методом химического газофазного осаждения, в частности, связано с активацией потока смеси нейтральных газов нагретыми металлическими поверхностями и может быть использовано в электронике, приборостроении, на предприятиях, производящих алмазный инструмент. Способ осаждения алмазных пленок из термически активированной газовой смеси включает активирование газовой смеси, содержащей водород и метан, посредством металлического активатора и осаждение пленки на нагретой подложке. Активирование упомянутой газовой смеси проводят в металлическом активаторе, состоящем из медного охлаждаемого водой полированного изнутри корпуса и трубок, установленных с образованием двух соосных цилиндрических каналов. Внутренний цилиндрический канал образован стенками металлической трубки и кварцевой трубки, внешний цилиндрический канал образован стенками омически нагреваемой трубки, изготовленной из тугоплавкого металла, и молибденовой трубки, установленной с помощью керамического изолятора в упомянутом корпусе. В пространство между трубками, образующими внешний цилиндрический канал, и корпусом металлического активатора подают аргон, в пространство между трубками, образующими внутренний и внешний цилиндрические каналы, подают водород, а по трубкам, образующим внутренний цилиндрический канал, подают смесь водорода и метана. Активирование упомянутой смеси проводят путем нагрева стенки внешнего цилиндрического канала, образованной упомянутой омически нагреваемой трубкой. Реактор для осаждения алмазных пленок из термически активированной газовой смеси содержит вакуумную камеру и расположенные в ней металлический активатор и подложкодержатель. Металлический активатор состоит из медного охлаждаемого водой корпуса, внутренняя поверхность которого отполирована, и трубок, установленных с образованием двух соосных цилиндрических каналов. Внутренний цилиндрический канал образован стенками металлической трубки и кварцевой трубки, внешний цилиндрический канал образован стенками омически нагреваемой трубки, изготовленной из тугоплавкого металла, и молибденовой трубки, установленной с помощью керамического изолятора в медном корпусе активатора. Обеспечивается создание способа и устройства для осаждения алмазных пленок из термически активированной смеси газов, обеспечивающих высокую скорость осаждения, высокое качество получаемых алмазных пленок и максимальное сокращение теплопотерь. 2 н.п. ф-лы, 1ил., 1пр.

Изобретение относится к химическому газофазному способу нанесения покрытий и может быть использовано в микроэлектронике, медицине, химической, текстильной и других областях промышленности

 


Наверх