Патенты автора Чистов Евгений Михайлович (RU)

Изобретение относится к технологии создания селективных мембран, функционирующих за счет избирательной диффузии водорода сквозь тонкую пленку палладия или его сплава, и может быть использовано в устройствах глубокой очистки водорода от сопутствующих примесей, сепарации водорода из водородсодержащих примесей, например в микрореакторах. Способ изготовления композиционной водородопроницаемой мембраны, содержащей тонкую селективную пленку из сплава на основе палладия, включает нанесение на очищенную пористую подложку тонкой селективной пленки из сплава на основе палладия магнетронным распылением. В качестве пористой подложки используют металлическую сетку саржевого плетения с нанесенным на упомянутую сетку пористым высокодисперсным слоем керамики с обеспечением выступающих островков металлических нитей указанной сетки над пористым высокодисперсным слоем керамики. В частных случаях осуществления изобретения островки металлических нитей указанной сетки выполняют сферическими. Нанесение упомянутой тонкой селективной пленки проводят при температуре, обеспечивающей диффузионное соединение с островками металлических нитей указанной сетки. Между упомянутой металлической сеткой с пористым высокодисперсным слоем керамики и упомянутой тонкой селективной пленкой наносят промежуточный металлический слой. Обеспечивается создание мембран, обладающих высокой надежностью и высокой селективной газопроницаемостью. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.
Изобретение относится к способу диффузионной сварки. Очищают детали из нержавеющей стали и мембраны из фольги палладия или палладиевого сплава электрополировкой. Собирают в пакет. В качестве промежуточного слоя применяют фольгу из никеля. Размещают в вакуумной камере. Нагревают. Прикладывают сварочное давление и изотермически выдерживают. Сварку ведут в вакууме не хуже 5·10-5 мм рт.ст. при температуре процесса Т=930-980˚C с выдержкой в течение 30-45 мин, при этом прикладывают сварочное давление, которое обеспечивает пластическую деформацию промежуточного слоя на 50% от его исходной толщины. Изобретение позволяет изготавливать герметичную по гелию стенку мембранного элемента, который используется для получения сверхчистого водорода (99,9999 об.%). Потребность в таком водороде для водородной энергетики и высоких технологий неуклонно растет.

Изобретение относится к технологии создания селективных газовых мембран, функционирующих за счет избирательной диффузии атомов газа (водорода) сквозь тонкую металлическую пленку (из палладия или сплавов на его основе), которые используются в устройствах глубокой очистки водорода от сопутствующих примесей, сепарации водорода из водородсодержащих смесей газов, в микрореакторах. Способ формирования тонкой фольги твердого раствора Pd-Cu с кристаллической решеткой типа CsCl включает магнетронное распыление мишени состава, близкого к Pd-40% Cu, в среде Ar 10-1 Па на термически оксидированные полированные пластины монокристаллического кремния и отделение полученной фольги от подложки, при этом температура подложки составляет 300-700 К, а отделенную тонкую фольгу дополнительно нагревают в вакууме не хуже 10-4 Па со скоростью 100 К/час до температуры 970 К и охлаждают со скоростью 100-200 К/час до комнатной температуры. Технический результат заключается в создании легковоспроизводимым и экономичным способом высокоэффективных мембран для глубокой очистки водорода, обладающих высокой селективной водородопроницаемостью и производительностью. 1 ил., 1 пр.

Изобретение относится к области мембранного извлечения чистого водорода из газовых смесей, содержащих водород

 


Наверх