Патенты автора Китай Мойше Самуилович (RU)

Изобретение относится к литографии, точнее к способам создания резистивной маски на поверхности полупроводниковой подложки

Изобретение относится к электрооптическим полимерным материалам, изменяющим коэффициент преломления при приложении электрического поля

Изобретение относится к способам создания резистивной маски на поверхности подложки

 


Наверх