Патенты автора Китай Мойше Самуилович (RU)
Изобретение относится к литографии, точнее к способам создания резистивной маски на поверхности полупроводниковой подложки
Изобретение относится к электрооптическим полимерным материалам, изменяющим коэффициент преломления при приложении электрического поля
Изобретение относится к способам создания резистивной маски на поверхности подложки