Патенты автора Яковлев Олег Борисович (RU)

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может быть использовано для изготовления круговых оптических шкал. Согласно способу заготовку обезжиривают, чистят, производят первую термообработку и наносят позитивный фоторезист на основе диазсоединений. Производят вторую термообработку, экспонирование и проявление с последующей промывкой вращающейся заготовки водой. На заготовку наносят в вакууме хромовое маскирующее покрытие и удаляют защитный фоторезистивный слой органическим растворителем. При экспонировании производят изменение амплитуды второй гармоники зависимости угловой погрешности расположения осей штрихов путем изменения угла наклона плиты установки экспонирования относительно оси падающего актиничного излучения. При синтезе используемого фотошаблона осуществляют изменение ее же фазы таким образом, чтобы вторая гармоника зависимости угловой погрешности расположения диаметров осей штрихов, обусловленная фотошаблоном, находилась в противофазе второй гармоники зависимости угловой погрешности расположения диаметров осей штрихов, вносимой операцией экспонирования. Технический результат - Уменьшение накопленной погрешности расположения диаметров осей штрихов.
Изобретение относится к области оптического приборостроения и может найти применение для изготовления оптических сборок в производстве оптико-электронных приборов

 


Наверх