Патенты автора ВИДРИГ Бено (CH)

Заявленная группа изобретений относится к лопаткам для газовых турбин с обеспечивающим улучшенные характеристики эрозионной и коррозионной стойкости покрытием, а также к другим компонентам газовых турбин с таким покрытием. Компонент турбины в виде турбинной лопатки имеет коррозионно-стойкое и эрозионно-стойкое покрытие, состоящее из функционального слоя и промежуточного слоя. Промежуточный слой размещен между субстратом турбинной лопатки и функциональным слоем и включает Cr и Al-Cr, и/или Al-Cr-O, или Al-Cr, и/или Al-Cr-O, а функциональный слой состоит из элементов Al, Cr, О и N. Способ получения коррозионно-стойкого и эрозионно-стойкого покрытия на компоненте турбины в виде упомянутой турбинной лопатки включает нанесение указанного покрытия катодным искровым испарением и/или напылением, причем на очищенную поверхность турбинной лопатки осаждают сначала промежуточный слой, а непосредственно после этого - функциональный слой, который состоит из элементов Al, Cr, О и N. Для компонентов газовых турбин обеспечивается система покрытия, которая имеет повышенную стойкость к эрозии и коррозии. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к области катодного искрового испарения. Способ импульсного прерывистого искрового разряда осуществляют посредством разряда от конденсатора и током разряда управляют посредством периодического подключения конденсатора. Между импульсами имеются временные интервалы отключения, в течение которых не протекает ток искрового разряда. В течение импульса, то есть в течение временных интервалов подключения, подача зарядов при достижении порога тока приостанавливается и вновь включается, так что в пределах импульса происходит образование подымпульсов. Временные интервалы и подымпульсы в соответствии с изобретением выбираются таким образом, что при повторном подключении конденсатора искровой разряд без труда повторно зажигается. Технический результат - снижение напряжения искового разряда. 3 н. и 3 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к области плазменной обработки

Изобретение относится к установке и способу плазменной вакуумной обработки

Изобретение относится к способам получения электроизолирующих слоев вакуумным нанесением покрытия

Изобретение относится к слоистым системам, наносимым методом PVD, а именно дуговым испарением

 


Наверх