Патенты автора Быстров В.И.
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ // 1584607
Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся композиции, которая используется для получения защитных рельефных изображений при производстве печатных плат в радио- и электротехнической промышленности
Изобретение относится к способам получения фотополимеризующихся композиций, которые используют в технологии печатного монтажа и полиграфии для получения рельефных изображений
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ // 1340398
Изобретение относится к способам изготовления защитных рельефов и может быть использовано при производстве печатных плат с использованием сухих пленочных фоторезистов в радио- и электротехнической промышленности
Изобретение относится к способам изготовления фотополимеризующихся композиций для защитных рельефов, которые находят применение в технологии печатного монтажа и в полиграфии для получения рельефных изображений
Изобретение относится к отрасли производства технических приборов звукозаписи, а именно к технологии изготовления прокладок для комплектации магнитофонных кассет
Изобретение относится к отрасли производства технических приборов звукозаписи, а именно к технологии изготовления прозрачных прокладок для комплектации магнитофонных кассет
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ // 2054706
Изобретение относится к составам сухих пленочных фоторезистов (СПФ), которые используются для изготовления печатных плат фотохимическим способом
