Патенты автора Попов Г.В.
Изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано при получении тонких покрытий на пластинах
Изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано при получении тонких покрытий из фоторезиста на пластинах (подложках)
Изобретение относится к схемам управления одногироскопных корректируемых курсоуказателей
Изобретение относится к устройствам нанесения покрытий посредством центрифугирования и может быть использовано, в частности, для создания светочувствительного слоя на полупроводниковых пластинах и фотошаблонах
Изобретение относится к области микроэлектроники
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем
Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии
Изобретение относится к области точного приборостроения, а именно к гироприборостроению, и может быть использовано для создания прецизионных гироскопических навигационных систем
Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем
Изобретение относится к машиностроению, электронике, пищевой и фармацевтической промышленности, а также может быть использовано и в других отраслях промышленности, где необходима сушка с ориентированной подачей изделий на технологические операции
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем
Изобретение относится к пищевой промышленности, машиностроению, электротехнике, а также может быть использовано и в других отраслях промышленности, где необходима сушка и ориентированная загрузка изделий на технологические операции