Патенты принадлежащие ЭДВАРДС ЛИМИТЕД (GB)

Настоящее изобретение относится к системе (10) создания вакуума, предназначенной для откачки вакуумной камеры (12), причем система содержит: вакуумный насос (16) и множество линий (22, 24) предварительной откачки, предназначенных для подачи газа в вакуумный насос, причем на первом этапе откачки камеры низкого вакуума первое устройство (22) линии предварительной откачки может быть подключено для подачи газа в вакуумный насос, а на втором этапе откачки камеры более высокого вакуума второе устройство (24) линии предварительной откачки, содержащее одну или более упомянутых передних линий, может быть подключено для подачи газа в вакуумный насос, причем второе устройство линии предварительной откачки имеет полную площадь поперечного сечения для подачи газа, которая больше, чем полная площадь поперечного сечения первого устройства линии предварительной откачки.

По меньшей мере, одну газообразную примесь, например силан, удаляют путем абсорбции из поступающего потока газа, например потока газа, содержащего азот и водород, каковая газообразная примесь обладает меньшей летучестью, чем поступающий поток газа.

Изобретение относится к многоступенчатым модульным вакуумным насосам, в частности к узлам уплотнения, используемым в таких вакуумных насосах. .

Изобретение относится к устройству для обработки газа, содержащего твердые частицы и кислотные газы. .

Изобретение относится к насосным системам. .

Изобретение относится к металлургии. .

Изобретение относится к способу и установке для удаления ионизируемых примесей из раствора электролита в электромембранном устройстве. .
Наверх