Патенты принадлежащие АЙКСТРОН АГ (DE)
Изобретение относится к способу осаждения одного или нескольких тонких слоев. Осуществляют введение органического материала для осаждения компонентов светоизлучающих диодов в виде газа или образующего полимер технологического газа вместе с газом-носителем с помощью газовпускного устройства (3) в осадительную камеру (8), чтобы на поверхности (7′) субстрата (7), размещенного на несущей поверхности (4′) держателя подложки, который расположен напротив газовпускного устройства (3), осадить тонкий слой из компонентов светоизлучающих диодов или в виде полимера.
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ СЛОЕВ ПОЛИПАРАКСИЛИЛЕНА ИЛИ ЗАМЕЩЕННОГО ПОЛИПАРАКСИЛИЛЕНА // 2481901
Изобретение относится к устройству и способу осаждения одного или более тонких слоев полипараксилилена. .
РЕЗЕРВУАР ИСТОЧНИКА ДЛЯ VPE-РЕАКТОРА // 2439215
УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ДЛЯ УПРАВЛЕНИЯ ТЕМПЕРАТУРОЙ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ // 2435873
Изобретение относится к устройству и способу управления температурой поверхности, по меньшей мере, одной подложки, лежащей в технологической камере реактора CVD. .
Изобретение относится к аппаратурному оформлению процесса осаждения из газовой фазы кристаллических слоев на кристаллическую подложку. .
