Патенты принадлежащие РОЛИК АГ (CH)

Изобретение относится к новым фотохимически активным полимерным материалам. Полимерный материал содержит повторяющиеся звенья формулы (I): в которой M1 обозначает мономерное звено, выбранное из группы, включающей акрилат, метакрилат, 2-хлоракрилат, 2-фенилакрилат, простой виниловый эфир, сложный виниловый эфир, стирол, силоксан; кольцо А представляет собой незамещенный фенилен, фенилен, который замещен фтором, хлором, цианогруппой, алкилом или алкоксигруппой, пиридин-2,5-диил, пиримидин-2,5-диил, 1,3-диоксан-2,5-диил, циклогексан-1,4-диил, пиперидин-1,4-диил или пиперазин-1,4-диил; кольцо В представляет собой незамещенный фенилен, фенилен, который замещен фтором, хлором, цианогруппой, алкилом или алкоксигруппой, пиридин-2,5-диил, пиримидин-2,5-диил, 1,4-нафтилен, 2,6-нафтилен, 1,3-диоксан-2,5-диил или циклогексан-1,4-диил; Y1,Y2 все независимо обозначают ординарную ковалентную связь, -(CH2)t-, -О-, -СО-, -СО-O-, -O-ОС-, -NR4-, -CO-NR4-, -R4N-CO-, -(CH2)u-O-, -О-(CH2)u-, -CF2O-, -OCF2-, -(CH2)u-NR4- или -NR4-(CH2)u-, где R4 обозначает водород или низший алкил; t обозначает целое число от 1 до 4; u обозначает целое число от 1 до 3; m, n все независимо равны 0 или 1; кольцо С представляет собой незамещенный фенилен, фенилен, который замещен фтором, хлором, цианогруппой, алкилом или алкоксигруппой, пиримидин-2,5-диил, пиридин-2,5-диил, 2,5-тиофенилен, 2,5-фуранилен, 1,4-нафтилен или 2,6-нафтилен; S1 обозначает мостиковое звено, причем если m и n равны 0, то мостиковым звеном является S2, а если по меньшей мере один m или n равен 1, то мостиковым звеном является S3; где S2 обозначает С4-С24-алкилен и S3 обозначает С9-С24-алкилен, предпочтительно С10-С24-алкилен, и где алкилен представляет собой незамещенный или замещенный обладающий линейной или разветвленной цепью алкилен, в котором одна или большее количество -СН2-групп могут быть заменены по меньшей мере одной мостиковой группой, алициклической или/и ароматической группой, Z обозначает -О- или -NR5-, где R5 обозначает водород или низший алкил, или вторую группу формулы D, где D обозначает незамещенную обладающую линейной цепью С1-С20-алкиленовую группу, незамещенную обладающую разветвленной цепью С1-С20-алкиленовую группу, обладающую линейной цепью С1-С20-алкиленовую группу, замещенную фтором или хлором, обладающую разветвленной цепью С1-С20-алкиленовую группу, замещенную фтором или хлором, незамещенный циклоалкильный остаток, содержащий от 3 до 8 кольцевых атомов, или циклоалкильный остаток, содержащий от 3 до 8 кольцевых атомов, замещенный фтором, хлором, алкилом или алкоксигруппой.

Рельефные микроструктуры поверхности могут быть использованы для защиты документов и различных предметов от подделки и подлога. Способ тиражирования образующей узор рельефной микроструктуры поверхности включает стадии: формирования первого слоя (21), имеющего образующую узор рельефную микроструктуру поверхности, на втором слое (22), причем первый слой содержит первый материал, а второй слой содержит второй материал; создания матрицы, включающего копирование микроструктуры первого слоя во второй слой на одной стадии травления; причем первый материал первого слоя и второй материал второго слоя (22), а также условия травления выбирают таким образом, чтобы скорость травления второго слоя (22) была выше скорости травления первого слоя (21); микроструктуру матрицы вводят в контакт с материалом копии так, чтобы микроструктура матрицы воспроизвелась в материале копии с профилем рельефа поверхности, обратным по сравнению с профилем рельефа поверхности матрицы.

Изобретение относится к элементу, содержащему участок поверхности со специальной создающей оптический эффект рельефной микроструктурой поверхности. .
Наверх