Патенты принадлежащие Российская академия наук Учреждение Российской академии наук Физико-технологический институт РАН (ФТИАН) (RU)

Изобретение относится к микро- и наноэлектронике, к технологии изготовления наноструктур размером <30 нм при травлении через резистивную маску с высоким аспектным отношением. .
Наверх