Патенты принадлежащие БОСТОН СИЛИКОН МАТИРИАЛЗ ЛЛК (US)
Изобретение относится к технологии получения высокочистого элементного кремния с помощью реакции тетрахлорида кремния с жидким металлическим восстанавливающим агентом при использовании двухреакторной установки.
