Патенты принадлежащие Общество с ограниченной ответственностью "ЭУФ Лабс" (RU)
Изобретение относится к импульсным высокояркостным источникам излучения в диапазоне длин волн 0.4-120 нм. Источник излучения содержит вакуумную камеру (1) с областью импульсной излучающей плазмы и средства подавления загрязнений (5), включающие в себя два или более кожухов (6), предназначенных для формирования свободных от загрязнений гомоцентрических пучков (7) коротковолнового излучения, направленных из области импульсной излучающей плазмы (2) к оптическому коллектору (3), Поверхность каждого кожуха (6) содержит две первые грани (8), ориентированные в радиальных направлениях к области импульсной излучающей плазмы и параллельные выделенному направлению, например вертикали.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла.
ИСТОЧНИК РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ЖИДКОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ МИШЕНЬЮ И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ // 2709183
Изобретение относится к области рентгенотехники, в частности к высокояркостным источникам рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью. Жидкометаллическая мишень (6) представляет собой слой расплавленного металла, образованный центробежной силой на обращенной к оси вращения (7) поверхности (8) кольцевого желоба (9) вращающегося анодного узла (10).
Изобретение направлено на усовершенствование высокояркостных источников излучения в диапазоне длин волн от 0,01 до 20 нм за счет глубокого подавления загрязняющих частиц на пути прохождения пучка коротковолнового излучения.
Кондукционный МГД-насос и насосная система // 2701154
Изобретение относится к электротехнике, к компактным магнитогидродинамическим (МГД) насосам. Технический результат состоит в уменьшении габаритов, упрощении конструкции и эксплуатации, повышении надежности и ресурса, обеспечении чистых условий прокачки широкого ряда жидких металлов и сплавов при высоком (2 бар) напоре с производительностью ~ 100 см3/c.
Изобретение относится к источнику излучения на основе лазерной плазмы. Область применений включает ЭУФ метрологию, инспекцию микро- и наноструктур, актиническую инспекцию литографических ЭУФ масок.
Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11).
Изобретение относится к области плазменной техники. Технический результат - расширение функциональных возможностей источника высокотемпературной плазмы и ЭУФ излучения за счет реализации возможности его эксплуатации в долговременном режиме при высоких яркости, мощности и эффективности.
ЖАРОПРОЧНАЯ МАГНИТНАЯ МУФТА // 2496033
Изобретение относится к магнитным муфтам и может использоваться в герметичных насосах, компрессорах и системах передачи движения. Технический результат заключается в создании жаропрочной магнитной муфты, предназначенной для передачи движения в горячих средах, в частности в расплавленных металлах с температурой выше 300°C.
Группа изобретений относится к устройству и способу для генерации мощного оптического излучения, в частности, в области экстремального УФ (ЭУФ) или мягкого рентгеновского излучения в диапазоне длин волн примерно от 1 нм до 30 нм.
