Использование: для создания функциональных элементов интегральных оптических схем. Сущность изобретения заключатся в том, что способ включает в себя этапы, на которых задают форму и размеры части поверхности подложки, подлежащей воздействию плазмы; обрабатывают заданную часть поверхности подложки плазмой, при этом плазма содержит ионы водорода с энергиями менее 10 кэВ.