Использование: для нанесения покрытий на вакуумной установке с линейным источником ионов. Сущность изобретения заключается в том, что осуществляют распыление мишени на неподвижную тестовую подложку, получают распределение толщины покрытия по поверхности этой подложки и выполняют контроль толщины во время нанесения покрытия на рабочую подложку, при этом перемещением платформы, на которую устанавливают линейный ионный источник и мишень, совмещают середину линии перегиба поверхностного распределения толщины покрытия с центром вращающейся рабочей подложки, наносят покрытие на подложку и одновременно проводят сквозной контроль оптической толщины покрытия как вдоль оси вращения, проходящей через центр подложки, так и на расстоянии от центра подложки, и по разности сигналов, получаемых от контрольных устройств в центре и на расстоянии от центра подложки, корректируют положение линии перегиба распределения толщины относительно оси вращения подложки перемещением платформы с линейным ионным источником и мишенью в процессе нанесения.