Патенты принадлежащие федеральное государственное автономное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ" (НИЯУ МИФИ) (RU)
Изобретение относится к способу определения толщины и контроля скорости эрозии и осаждения тонких слоев на обращенных к плазме элементах плазменных установок. В изобретении предусмотрено изготовление и помещение в плазменную установку мишеней из легкого и/или тяжелого элемента (например, вольфрам на боре или углерод на вольфраме) с заданной толщиной поверхностного слоя в те места установки, в которых предполагается исследовать скорость эрозии и/или осаждения, с последующим анализом энергетических спектров отраженных на угол 30-90° от экспонированных мишеней ионов водорода с начальной энергией в диапазоне 1-20 кэВ.
