Патенты принадлежащие ЛИЛАС ГМБХ (DE)

Устройство для отклонения лазерного излучения (1) содержит первую линзовую матрицу (2) с множеством расположенных рядом друг с другом линз (3), через которую по меньшей мере частично проходит лазерное излучение (1) и формируется множество частичных лучей, вторую линзовую матрицу (8) с множеством расположенных рядом друг с другом линз (9), которая расположена таким образом, что лазерное излучение, прошедшее через первую линзовую матрицу (2), по меньшей мере частично проходит через вторую линзовую матрицу (8), подвижное, вращаемое или поворачиваемое первое зеркало (5), которое расположено между указанными двумя линзовыми матрицами (2, 8) и отклоняет прошедшее через первую линзовую матрицу (2) лазерное излучение (1) в направлении второй линзовой матрицы (8).

Согласно изобретению предложен способ изготовления солнечного элемента с тонким слоем из кремния. Способ включает нанесение ТСО-слоя (3) на стеклянную подложку (1), нанесение на ТСО-слой (3) по меньшей мере одного слоя (4; 5) кремния, причем перед нанесением ТСО-слоя (3) стеклянную подложку (1) подвергают облучению электронным излучением, при этом образуется рассеивающий свет слой (2) стеклянной подложки (1), на которую наносится ТСО-слой (3).
Наверх