На другие неорганические подложки (C23C14/18)
C23C14/18 На другие неорганические подложки(22)
Изобретение относится к способу получения высокотемпературного сверхпроводящего монокристаллического слоя YBа2Cu3O7 на подложке из монокристаллического сапфира с ориентацией . Упомянутую подложку располагают в металлическом держателе с возможностью расположения поверхности осаждения упомянутой подложки параллельно направлению распространения эрозионного факела и с возможностью скольжения факела по указанной поверхности осаждения.
Изобретение относится к области технологии микроэлектроники и наноэлектроники, а именно к способу получения наноструктур с твердотельными лучами в виде нанозвезд. Проводят конденсацию золота на подложку методом термического испарения в вакуумной установке.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него и может быть использовано в стекольной промышленности на технологической стадии нанесения декоративных покрытий на стеклянные бытовые товары.
Изобретение относится к области нанесения защитных покрытий в металлургии и машиностроении. Способ получения наноразмерных пленок нитрида титана на подложке из кварцевого оптического стекла осуществляют следующим образом.
Изобретение относится к области технологии функциональных материалов и устройств нанофотоники, оптоэлектроники и конвертеров излучения с высокой термической стабильностью на базе наноразмерных тонкопленочных структур оксидов редкоземельных элементов.
Группа изобретений относится к изделию в виде стекла с покрытием с низким коэффициентом излучения, изоляционному стеклопакету, который содержит упомянутое изделие с покрытием, и устройству для изготовления указанного изделия.
Изобретение относится к способам формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge, которые могут быть использованы в устройствах спинтроники. Способ формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge включает осаждение на германиевую подложку атомов металла в потоке молекулярного кислорода методом молекулярно-лучевой эпитаксии, при этом поверхность подложки Ge(001) предварительно очищают от слоя естественного оксида, или очищают от слоя естественного оксида и формируют на ней поверхностные фазы Еu, представляющие собой субмонослойные покрытия из атомов европия, после чего при температуре подложки TS=20÷150°C производят осаждение европия при давлении PEu=(0,1÷100)⋅10-8 Торр потока атомов европия (ФEu) в потоке кислорода ФO2 с относительной величиной 2≤ФEu/ФO2≤2,2 до формирования пленки ЕuО толщиной менее 10 нм.
Изобретение относится к вакуумной технологии очистки поверхности и нанесения упрочняющих покрытий на изделия из кварцевого стекла, преимущественно марки КВ, указанная технология может быть использована в космических аппаратах в условиях космического пространства.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения оксидированной нержавеющей стали на стеклянные изделия, и может быть использовано в стекольной промышленности.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия, и может быть использована в стекольной промышленности. Из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и вращают корзину со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий, а именно к способу нанесения алюминия на стеклянные изделия из него, и может быть использовано в стекольной промышленности на технологической стадии нанесения декоративных покрытий на стеклянные бытовые товары.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения латуни марки Л63 на стеклянные изделия, и может быть использовано в стекольной промышленности на технологической стадии нанесения декоративных покрытий на стеклянные бытовые товары.
Группа изобретений относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способам нанесения оксида титана на стеклянные изделия, и может быть использована в стекольной промышленности. Из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и вращают корзину со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту.
Изобретение относится к способу получения электропроводящего покрытия на металлической или неметаллической подложке с использованием механической вибрации. Осуществляют подачу рабочего газа в вакуумную камеру с подложкой и ионно-плазменное напыление проводящего покрытия на подложку магнетронным распылением.
Группа изобретений относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способам нанесения нитрида титана на стеклянные изделия, и может быть использована в стекольной промышленности. Из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и запускают вращение корзины со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту.
Изобретение относится к способам крепления гибких металлических подложек к водоохлаждаемому подложкодержателю и может быть использовано для напыления тонких пленок, чувствительных к нагреву. Подложку выполняют гибкой с большим радиусом изгиба, выпуклой в сторону поверхности плоского водоохлаждаемого подложкодержателя и со стрелой прогиба в сторону потока напыляемого материала.
Изобретение относится к поршневому кольцу и способу его изготовления. На наружную поверхность корпуса поршневого кольца по меньшей мере на рабочую поверхность нанесено алмазоподобное углеродное покрытие в качестве функционального покрытия.
Изобретение относится к устройствам для изготовления изделий из углерод-карбидокремниевых материалов со специальными свойствами, предназначенных для использования в химической, химико-металлургической промышленности, а также в авиатехнике.
Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно к формированию наноразмерной тонкопленочной структуры, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания новых материалов.
Изобретение относится к технологии производства тонких алмазных пленок и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и активных слоев тонкопленочных наноструктур.
Изобретение относится к способу получения на подложке пленок с ферромагнитными кластерами Mn5Ge3Ox в матрице GeO при низких температурах. Получаемая Mn5Ge3Ox фаза может быть использована в качестве элементов спинтроники.
Изобретение относится к изделиям с покрытием и может быть использовано в области монолитных окон, в теплоизоляционных стеклопакетах и многослойных окнах. Изделие содержит многослойное покрытие, нанесенное на стеклянную основу.
Изобретение относится к технологии создания селективных мембран, функционирующих за счет избирательной диффузии водорода сквозь тонкую пленку палладия или его сплава, и может быть использовано в устройствах глубокой очистки водорода от сопутствующих примесей, сепарации водорода из водородсодержащих примесей, например в микрореакторах.
Изобретение относится к области физики наноразмерных структур, а именно способу получения тонких металлических пленок, которые могут быть использованы в качестве тест объектов оптических приборов. Способ получения тонкой нанокристаллической пленки системы Ni-Al на стеклянной подложке включает нанесение конденсацией в вакууме металлических слоев на стеклянную подложку и проведение синтеза интерметаллического соединения, при этом на стеклянную подложку наносят не менее шести слоев в последовательности Ni/Al/Ni/Al/Ni/Al в вакууме при остаточном давлении не хуже 10-5 торр с толщиной каждого слоя от 30 до 60 нм, а синтез интерметаллического соединения осуществляют с помощью релаксационного отжига в вакууме путем ступенчатого нагрева со скоростью 1 град/с в интервале температур от 20 до 300°С до получения тонкой нанокристаллической пленки с заданной плотностью интерметаллической фазы.
Изобретение относится к области физики наноразмерных структур, а именно способу получения тонких металлических пленок, в частности, системы Ni-Al. На стеклянную подложку в вакууме при остаточном давлении не ниже 10-5 Торр наносят не менее шести металлических слоев толщиной 30-60 нм в последовательности Ni/Al/Ni/Al/Ni/Al и осуществляют химическую реакцию между слоями путем нагрева многослойной тонкопленочной металлической системы от комнатной температуры до 600°C с умеренной скоростью 1 град/с для осуществления объемного синтеза.
Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно способу получения квазимонокристаллической интерметаллической тонкой пленки с наноразмерной структурой, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания наноструктурных материалов.
Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно к способу получения тонкой нанокристаллической интерметаллической пленки на стеклянной подложке, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания новых материалов.
Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно к способу получения монофазной интерметаллической тонкой пленки с наноразмерной структурой на стеклянной подложке, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания наноструктурных материалов на основе интерметаллических соединений.
Изобретение относится к производству изделий из композиционных материалов (КМ) с металлической и карбидно-металлической матрицами, а также из керметов. .
Изобретение относится к улучшенным системам покрытия, в частности к новым толстым покрытиям и способам их выполнения для получения режущих инструментов. .
Изобретение относится к электротермическому машиностроению, а именно к вакуумным установкам для нанесения покрытий в разряде. .
Изобретение относится к стеклоподобной или металлической подложке, обладающей антимикробными свойствами, а также к способу ее получения. .
Изобретение относится к металлургии, в частности к радиационному материаловедению. .
Изобретение относится к области получения металлических покрытий методом магнетронного и дугового вакуумного распыления материала катода и может быть использовано для получения токопроводящих, защитных, износостойких покрытий на изделиях из керамики.
Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий. .
Изобретение относится к способам нанесения теплоотражающих покрытий на стекло напылением в вакууме. .
Изобретение относится к технологии нанесения покрытий из тугоплавких карбидообразующих металлов на абразивные зерна из сверхтвердого материала - природного и искусственного алмаза. .