Держатели подложек (C23C14/50)
C23C14/50 Держатели подложек(60)
Изобретение относится к способу получения высокотемпературного сверхпроводящего монокристаллического слоя YBа2Cu3O7 на подложке из монокристаллического сапфира с ориентацией . Упомянутую подложку располагают в металлическом держателе с возможностью расположения поверхности осаждения упомянутой подложки параллельно направлению распространения эрозионного факела и с возможностью скольжения факела по указанной поверхности осаждения.
Изобретение относится к устройству для вакуумно-плазменного нанесения металлического двухстороннего покрытия на пьезопленки. Упомянутое устройство содержит вакуумную камеру с источником ионно-плазменного распыления и держатели пьезопленок.
Изобретение относится к литейному производству и может быть использовано для повышения стойкости металлического кокиля для литья медных сплавов. Способ нанесения защитного покрытия на формообразующую поверхность металлического кокиля для литья медных сплавов осуществляют следующим образом.
Изобретение относится к технике нанесения покрытий, а именно к ионно-плазменным установкам, которые могут быть использованы в качестве средства технологического оснащения при производстве металлорежущих многогранных твердосплавных пластин.
Группа изобретений относится к устройству и способу для нанесения покрытия на одну или более деталей методом физического осаждения из газовой фазы (PVD). Устройство содержит по меньшей мере одну камеру подачи, по меньшей мере одну камеру для нанесения покрытия и по меньшей мере один манипулятор с держателем, к которому обеспечена возможность прикрепления одной или более деталей.
Изобретение относится к способам крепления гибких металлических подложек к водоохлаждаемому подложкодержателю и может быть использовано для напыления тонких пленок, чувствительных к нагреву. Подложку выполняют гибкой с большим радиусом изгиба, выпуклой в сторону поверхности плоского водоохлаждаемого подложкодержателя и со стрелой прогиба в сторону потока напыляемого материала.
Изобретение относится к технологическому оборудованию для вакуумной молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводниковых структур и может быть использовано в качестве узла фиксации подложки, нагреваемой с помощью пластинчатого или утолщенного ленточного резистивного нагревателя в вакуумных установках, предпочтительно с фиксацией подложки с нижним расположением ее рабочей поверхности и формированием потоков паров полупроводникового материала, например германия, в направлении снизу вверх от сублимационных источников указанных паров или потоков паров полупроводникового материала, например германия или/и кремния, в направлении снизу вверх от тигельных молекулярных источников на основе электронно-лучевых испарителей.
Изобретение относится к вакуумной камере. Вакуумная камера содержит цилиндрический корпус с двумя крышками с обеих сторон цилиндра и стационарно установленную конструкцию в виде консоли наверху упомянутого цилиндрического корпуса для отведения крышек от корпуса камеры и поворота ее вокруг оси диаметра на угол.
Изобретение относится к поддону для транспортировки одной или нескольких стеклянных подложек по существу в вертикальном положении через распылительную установки (варианты) и системе осаждения методом распыления.
Изобретение относится к технике для нанесения покрытий на детали машин, более конкретно к вакуумным ионно-плазменным технологиям, и может быть использовано для нанесения эрозионностойких покрытий на лопатки блиска турбомашин.
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано в авиационном двигателестроении и энергетическом турбостроении для защиты пера рабочих лопаток моноколеса компрессора ГТД из титановых сплавов от эрозионного разрушения.
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и позволяет изменять расположение покрываемой детали относительно источника распыляемого или испаряемого материала с сохранением осевого вращения детали - подложки.
Изобретение относится к технике для нанесения покрытий на детали машин, а именно к вакуумной ионно-плазменной обработке поверхностей, и может быть использовано для нанесения функциональных покрытий на моноколеса турбомашин.
Изобретение относится к устройству для вакуумной обработки армирующего волокна и способу вакуумной обработки армирующего волокна. Указанное устройство содержит камеру, выполненную с возможностью поддерживания в ней состояния пониженного давления, подающий ролик, расположенный с возможностью подвешивания армирующего волокна в упомянутой камере, устройство для нанесения покрытия, расположенное в упомянутой камере с возможностью пропускания через него армирующего волокна, подвешенного в упомянутой камере, захватное устройство, расположенное с возможностью захвата и удерживания на месте переднего конца армирующего волокна, проходящего через упомянутое устройство для нанесения покрытия и вертикально спадающего вниз, намоточный барабан для наматывания армирующего волокна, обработанного упомянутым устройством для нанесения покрытия, и упругий шнур, отводимый синхронно с вращением намоточного барабана из первого его положения, в котором упругий шнур окружает упомянутый передний конец армирующего волокна, удерживаемый на месте упомянутым захватным устройством, во второе его положение, в котором упругий шнур входит в контакт с армирующим волокном и подводит его к намоточному барабану.
Изобретение относится к области вакуумного напыления на заготовки печатных плат пленочных элементов и схем из различных материалов. Устройство для крепления заготовок плат содержит рамку 1 с технологическими окнами, установленные на рамке 1 по крайней мере две опорные площадки 3 для базирования заготовок плат 2 и механизм фиксации, выполненный в виде установленного в корпусе 6 крепежного элемента 4 с возможностью его жесткого соединения с соответствующей опорной площадкой 3 и подпружиненного относительно корпуса 6 посредством упругого элемента 5, при этом корпус 6 выполнен в виде втулки с прижимным выступом 7 для прижима заготовки платы 2, а втулка установлена с возможностью смещения прижимного выступа 7 относительно опорной площадки 3 и его линейного перемещения вверх-вниз при базировании на рамке 1 заготовки платы 2 в зависимости от ее толщины.
Изобретение относится к способу и устройству для изготовления ротора электростатического гироскопа. Процесс изготовления ротора включает формообразование сферической заготовки ротора, его балансировку и нанесение тонкопленочного износостойкого покрытия переменной толщины.
Изобретение относится к установке магнетронного напыления тонких пленок из карбидов или нитридов кремния на подложку, выполненную из полупроводникового материала, керамики или стекла. Установка содержит вакуумную камеру, размещенные в ней магнетрон, штатив и закрепленное на нем устройство для оптического нагрева подложки и регулирования ее температуры, которое содержит анод-подложкодержатель для размещения подложки, держатель с установленными на нем по меньшей мере двумя лампами со встроенными отражателями, регулятор тока накаливания и температуры подложки.
Изобретение относится к области нанесения ионно-плазменных покрытий, а именно к устройству и способу нанесения защитных покрытий. Устройство содержит по меньшей мере одну пару расположенных напротив друг друга вакуумно-дуговых испарителей с общим электроизолированным анодом для каждой пары и одну пару газоразрядных источников ионов, образующих кольцевую зону обработки изделий.
Изобретение относится к манипулятору (1) для динамического позиционирования основы (2), подлежащей обработке, способу термического напыления для нанесения функционального структурированного слоя (20) покрытия на основу (2) и к устройству для его осуществления.
Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности углеродные (алмазные) пленки или покрытия.
Изобретение относится к установке для вакуумной обработки изделий и способу вакуумной обработки с использованием упомянутой установки. Заявленная установка предназначена для обработки изделий, закрепленных на карусели (205), размещенной на карусельных салазках (201).
Изобретение относится к нанесению покрытий на изделия в вакууме. Устройство содержит вакуумную камеру, систему термического напыления материала на обе стороны подложки, дисковую карусель, на которой установлены узлы поворота с держателями подложек, систему вакуумной откачки, два неподвижно закрепленных на крышке вакуумной камеры копира для обеспечения вращения подложек на 180° за один оборот карусели, один из которых выполнен в форме кольца, а второй - в форме разомкнутого кольца.
Изобретение относится к устройствам для напыления покрытий на сферические роторы электростатических гироскопов и может быть использовано в точном приборостроении. Устройство содержит вакуумную камеру, внутри которой размещены источник распыления и механизм вращения ротора в виде двух рамок, выполненных с возможностью независимого вращения, жестко связанные с внутренней рамкой фиксаторы для крепления ротора в виде соосных игольчатых упоров.
Изобретение относится к установке для напыления покрытий на прецизионные детали узлов гироприборов и может быть использовано в точном приборостроении. Мишень-распылитель создает кольцевую зону потока испаряемого материала средним диаметром Dм.
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий, в частности к кассете для обрабатываемых деталей. Несколько дисков (7) кассеты расположены вдоль центрального вала и снабжены держателями (8), равномерно распределенными по окружности, наклоненными в направлении наружу и предназначенными для установки в них обрабатываемых деталей.
Изобретение относится к способу нанесения нанокомпозитных покрытий на плоские поверхности деталей и устройству для его реализации. .
Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на бутылки и к транспортирующему средству для них. .
Изобретение относится к области аппаратурного оформления технологий нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности.
Изобретение относится к вспомогательным устройствам, входящим в технологический комплекс для нанесения покрытий при производстве изделий электронной техники. .
Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки. .
Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме. .
Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме. .
Изобретение относится к области нанесения покрытий в экологически чистых вакуумных технологических установках. .
Изобретение относится к изготовлению вакуумных установок для нанесения ионно-плазменным напылением защитно-упрочняющих и декоративных покрытий на изделиях. .
Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для электронно-лучевых процессов обработки, в том числе полировки, изделий оптики и микроэлектроники. .
Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в установках для изготовления приборов с селеновым покрытием, наносимым методом термического испарения или ионного распыления. .
Изобретение относится к технологии нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в производстве изделий микроэлектронной и вычислительной техники. .
Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. .
Изобретение относится к области нанесения тонких пленок вакуумным напылением и может быть использовано для вращения лопаток турбин в потоке конденсата в вакуумных установках. .