Дозирование компонентов, входящих в электролит (C25D21/14)
C25D21/14 Дозирование компонентов, входящих в электролит(9)
Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава. Устройство содержит катодную камеру, в которой размещается деталь, анодную камеру, анод, размещенный в анодной камере, электропроводящую диафрагму, размещенную отделяющей катодную камеру и анодную камеру друг от друга, резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в катодной камере, резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в анодной камере, а также блок источника питания, который обеспечивает протекание электрического тока между деталью и анодом.
Предложен раствор для формирования металлической пленки для подачи ионов металлов на мембрану из твердого электролита при формировании пленки. При этом при формировании пленки мембрана из твердого электролита расположена между анодом и подложкой в качестве катода, и мембрана из твердого электролита приведена в контакт с подложкой, и между анодом и подложкой подают напряжение для осаждения металла на поверхности подложки из металлических ионов, содержащихся в мембране из твердого электролита, при этом на поверхности подложки формируется металлическая пленка из металла.
Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано в электрохимической и химической обработке металлов с применением химических методов. .
Изобретение относится к способу и установке электролитического лужения непрерывно движущейся стальной полосы. .
Изобретение относится к гальваническому меднению подложек и может быть использовано при меднении подложек с использованием нерастворимых анодов в кислых ваннах и отдельной подачи ионов меди. .
Изобретение относится к способам регулирования процессов электроосаждения покрытий и может быть использовано для получения блестящих и матовых никелевых покрытий с малыми внутренними напряжениями и сравнительно небольшой микротвердостью.