Вакуумное испарение (C23C14/24)
C23C14/24 Вакуумное испарение(556)
Изобретение относится к технологии формирования эпитаксиальных гетероструктур, а именно тонких пленок оксида европия на германии, которые могут быть использованы при создании устройств германиевой наноэлектроники и спинтроники, в частности инжекторов спин-поляризационного тока, спиновых фильтров, устройств памяти, нейроморфных устройств.
Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано в электронной промышленности при изготовлении герметизированных магнитоуправляемых контактов (герконов). Повышение прочности поверхности контакт-деталей является техническим результатом, который достигается ионно-плазменным формированием защитного покрытия герконов, по которому в зазоре между контакт-деталями возбуждают тлеющий разряд импульсами напряжения длительностью 10-30 мкс при частоте следования в 20-30 кГц с коэффициентом заполнения разрядного тока 20-90%, после чего в два последовательных этапа осуществляют очистку поверхности контакт-деталей током разряда с импульсной плотностью (7-9)⋅102 мА/см2 в течение 30-45 минут и азотирование поверхности током разряда с импульсной плотностью (4-6)⋅102 мА/см2 в течение 90-120 минут, при этом на исходной поверхности контакт-деталей герконов формируют микрорельеф со среднеарифметическим отклонением профиля, равным 0,16-0,20 мкм.
Изобретение относится к области технологии микроэлектроники и наноэлектроники, а именно к способу получения наноструктур с твердотельными лучами в виде нанозвезд. Проводят конденсацию золота на подложку методом термического испарения в вакуумной установке.
Изобретение относится к области солнечной энергетики, а именно к фотоэлектрическим преобразователям на основе полупроводниковых материалов перовскитного типа. Фотовольтаическое устройство содержит следующие слои: 0 - подложка и/или барьерный слой, защищающий остальные слои от механических воздействий, влияния влаги и кислорода воздуха; 1 - полупрозрачный дырочно-собирающий электрод; 2 - дырочно-селективный слой; 3 - фотоактивный перовскитный слой; 4 - электрон-селективный слой; 5 - электрон-собирающий электрод; 6 - подложка и/или барьерный слой, защищающий остальные слои от механических воздействий, влияния влаги и кислорода воздуха.
Изобретение относится к способу нанесения покрытия на металлическую полосу (10). Нанесение покрытия осуществляют по принципу физического осаждения из паровой фазы (PVD) в установке (1) для нанесения покрытия на полосу с использованием металлической подложки (12).
Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано в инструментальном производстве для поверхностного упрочнения металлорежущего инструмента. Покрытие на основе системы Ti-Al получают путем его нанесения на деталь 2 вакуумно-дуговым осаждением с двух электродуговых испарителей из однокомпонентных катодов из титана 3 и алюминия 4, при этом предварительно обезжиривают поверхность детали 2, помещают обрабатываемую деталь 2 в вакуумную камеру 1, создают в камере рабочее давление 8⋅10-3-5⋅10-2 Па, проводят ионную очистку, нагрев и активацию поверхности в два этапа, причем ее нагрев на первом этапе осуществляют до температуры 300-350°C с использованием сильноточного плазменного источника с полым катодом 5 в среде инертного газа аргона, на втором этапе поверхность детали 2 нагревают до температуры 400-450°С электродуговыми испарителями в среде инертного газа аргона, после этого наносят первый слой титана в среде инертного газа аргона, после чего наносят покрытие на основе системы Ti-Al в среде смеси газов азота и ацетилена с образованием фаз TiN, AlN, TiAl, Ti3Al, TiAl3, TiC, TiAlC при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником также с использованием полого катода.
Изобретение относится к области космонавтики, в частности к получению тонких пленок тепловой энергией самораспространяющегося высокотемпературного синтеза (СВС), для устранения микротрещин на поверхности корпуса космических летательных аппаратов (КЛА).
Заявленная группа изобретений относится к лопаткам для газовых турбин с обеспечивающим улучшенные характеристики эрозионной и коррозионной стойкости покрытием, а также к другим компонентам газовых турбин с таким покрытием.
Изобретение относится к технологиям нанесения ионно-плазменных покрытий, а именно к способу обработки поверхности изделия из титанового сплава для получения антифреттингового покрытия. Проводят предварительную подготовку поверхности изделия, размещение изделия и токопроводящего материала из титанового сплава, легированного алюминием и хромом, в зоне обработки, расположенной в рабочей камере установки для ионно-плазменного напыления.
Изобретение относится к оборудованию для нанесения покрытий на подложку. Установка для вакуумного осаждения для непрерывного осаждения на перемещающуюся подложку покрытий, сформированных из металла или металлического сплава, содержит тигель для испарения, выполненный с возможностью подачи паров металла или металлического сплава и содержащий испарительную трубку 7, камеру для осаждения, выполненную с возможностью прохождения подложки по заданной траектории, и устройство 3 для нанесения покрытий струёй пара, соединяющее испарительную трубку 7 с камерой для осаждения, при этом устройство 3 для нанесения покрытий струёй пара дополнительно включает в себя распределительную камеру 31, содержащую по меньшей мере одно средство повторного нагрева 33, расположенное внутри распределительной камеры, и сопло 32 для выпуска пара, содержащее нижнее отверстие 9, соединяющее сопло 32 для выпуска пара с распределительной камерой 31, верхнее отверстие 10, через которое пар может выходить в камеру для осаждения, и две боковые поверхности 11, 12, сходящиеся друг к другу в направлении верхнего отверстия 10.
Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к области получения тонких пленок металлов. Устройство для получения тонких пленок металлов тепловой энергией самораспространяющегося высокотемпературного синтеза содержит вакуумную рабочую камеру 1, испаритель 4, в котором находится испаряемый материал 5, емкость для СВС-шихты, источник кратковременного теплового импульса, подложки 8, нагреватель 9 подложек 8, заслонку 7 для перекрытия потока частиц испаряемого материала 5, расположенную между испарителем 4 и подложками 8, и средства создания вакуума в рабочей камере, при этом емкость для СВС-шихты выполнена в виде вольфрамового цилиндра 2, заполненного инертным газом при нормальных атмосферных условиях, в котором установлена спрессованная СВС-шихта 3 и вольфрамовые спирали 6 для инициирования кратковременного теплового импульса, в верхней части цилиндр 2 герметично закрыт вольфрамовой крышкой с вогнутой полостью в форме лодочки, одновременно являющейся испарителем 4, заслонка 7 закреплена на стержне, установленном на основании вакуумной камеры 1, при этом испаритель 4 с испаряемым материалом 5 и подложки 8 находятся в условиях высокого вакуума.
Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения пленок алмаза большой площади на подложках из кремния. Способ непрерывного выращивания полупроводниковых пленок алмаза включает нагрев порошка алмаза 5 в графитовом контейнере в среде вакуума с осаждением пленки алмаза 8 на поверхности кремния, при этом под нижней поверхностью контейнера посредством бобин 2, 9 перемещают ленту из графитовой фольги 3 с предварительно полученным слоем мультикристаллического кремния, днище контейнера выполняют в виде приваренного к его граням слоя 7 углеродной ткани с саржевым плетением, нагрев порошка алмаза осуществляют до температуры 1050°С графитовым нагревателем 6, затем создают разность потенциалов между корпусом контейнера и подающей бобиной 2 с упомянутой лентой 3, а ленту с полученной пленкой алмаза 8 наматывают на приемную бобину 9.
Изобретение относится к формированию тонких углеродных пленок и может быть использовано для получения антиэмиссионного покрытия на сетках мощных генераторных ламп. Способ получения пленочного покрытия с низкой вторичной электронной эмиссией на подложке включает осаждение наноуглеродного пленочного покрытия в микроволновой плазме и модификацию поверхности пленочного покрытия с использованием микроволновой плазмохимической обработки во фторуглеродной газовой среде при давлении 0,1-0,2 Па и ускоряющем потенциале на подложкодержателе 200-300 В.
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано в авиационном двигателестроении и энергетическом турбостроении для защиты пера рабочих лопаток компрессора газотурбинного двигателя из титановых сплавов.
Изобретение относится к способам формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge, которые могут быть использованы в устройствах спинтроники. Способ формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge включает осаждение на германиевую подложку атомов металла в потоке молекулярного кислорода методом молекулярно-лучевой эпитаксии, при этом поверхность подложки Ge(001) предварительно очищают от слоя естественного оксида, или очищают от слоя естественного оксида и формируют на ней поверхностные фазы Еu, представляющие собой субмонослойные покрытия из атомов европия, после чего при температуре подложки TS=20÷150°C производят осаждение европия при давлении PEu=(0,1÷100)⋅10-8 Торр потока атомов европия (ФEu) в потоке кислорода ФO2 с относительной величиной 2≤ФEu/ФO2≤2,2 до формирования пленки ЕuО толщиной менее 10 нм.
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано в авиационном двигателестроении и энергетическом турбостроении для защиты пера лопатки компрессора газотурбинного двигателя из титановых сплавов от пылеабразивной эрозии.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения оксидированной нержавеющей стали на стеклянные изделия, и может быть использовано в стекольной промышленности.
Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия, и может быть использована в стекольной промышленности. Из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и вращают корзину со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту.
Группа изобретений относится к металлической подложке с защитным от коррозии покрытием, способу ее изготовления и установке для непрерывного вакуумного осаждения указанного покрытия на движущуюся металлическую подложку и может быть использована для изготовления компонентов автомобильного транспортного средства.
Изобретение относится к технике нанесения покрытий, а именно к ионно-плазменным установкам, которые могут быть использованы в качестве средства технологического оснащения при производстве металлорежущих многогранных твердосплавных пластин.
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в области получения тонких пленок тугоплавких, или среднеплавких металлов, или их соединений. Способ включает предварительную подготовку подложки 6, герметизацию установки для термовакуумного испарения, нагрев испаряемых материалов с обеспечением генерации направленного потока частиц и их конденсацию на подложку в вакууме, при этом нагрев тугоплавких, или среднеплавких металлов, или их соединений до температуры испарения осуществляют тепловой энергией твердофазной экзотермической реакции самораспространяющегося высокотемпературного синтеза шихты 2, состоящей из смеси порошков тугоплавких металлов и углерода, размещённой в тигле 1, над которым расположена лодочка 3 с испаряемыми металлами или их соединениями 4.
Изобретение относится к способу нанесения коррозионностойких твердых износостойких наноструктурированных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода и может быть использовано в металлообработке, машиностроении, медицине, электронике, солнечной энергетике, оптоэлектронике, фотонике, в производстве жидкокристаллических дисплеев и других областях для повышения эксплуатационных свойств поверхности изделий различного функционального назначения.
Изобретение относится к технологии нанесения антиэмиссионного покрытия из пиролитического углерода на металлические сеточные электроды электронных ламп большой мощности, таких как мощные генераторные лампы, лампы бегущей волны (ЛБВ), клистроны импульсного и непрерывного действия, магнетроны.
Изобретение относится к износостойким многослойным покрытиям с повышенной коррозионной стойкостью и может быть использовано в металлообработке, машиностроении, нефтегазовой промышленности и химической промышленности.
Изобретение относится к технологии нанесения твердых износостойких наноструктурированных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода и может быть использовано в металлообработке, машиностроении, медицине, электронике, солнечной энергетике, оптоэлектронике, фотонике, в производстве жидкокристаллических дисплеев, защитных покрытий с высокой твердостью для повышения эксплуатационных свойств поверхности изделий различного функционального назначения.
Изобретение относится к области машиностроения, в частности к получению износостойких покрытий, и может быть использовано для повышения надежности и долговечности широкого ассортимента деталей. Способ нанесения композиционного покрытия на деталь из инструментальной стали включает ионную очистку детали в среде инертного газа и формирование адгезионного, переходного и функционального слоев.
Изобретение относится к области поверхностной обработки стекла и может быть использовано для изготовления цветного стекла. Техническим результатом является обеспечение возможности простого регулирования и изменения колориметрических характеристик покрытия, наносимого на поверхность стеклянной подложки для изготовления цветного стекла без добавления дополнительных металлических оксидов в исходную композицию стекла.
Изобретение относится к технологии непрерывного осаждения покрытий, сформированных из металла или металлических сплавов. Способ непрерывного осаждения на перемещающуюся подложку покрытий, сформированных, по меньшей мере, из одного металла внутри установки для вакуумного осаждения, содержащей вакуумную камеру, содержит этап, на котором в указанной вакуумной камере металлический пар 5 выбрасывается через по меньшей мере два паровых эжектора 3, 3' в направлении к обеим сторонам перемещающейся подложки, и слой по меньшей мере одного металла формируется с каждой стороны посредством конденсации выбрасываемых паров, причем по меньшей мере два паровых эжектора 3, 3', обращенных друг к другу, расположены по обе стороны от подложки и позиционируются соответственно под углом α и α', находясь между эжектором пара и осью А, перпендикулярной направлению перемещения подложки, ось которой находится в плоскости подложки, α и α' удовлетворяют следующим уравнениям:(D1+D2)+Le sin α + We cos α = Ws и(D1+D2)+Le sin α' + We cos α' = Ws,углы α и α' по абсолютной величине выше 0° и D1 и D2 - меньшее расстояние между эжекторами и каждым краем подложки вдоль оси (A), Ws - ширина подложки, D1 и D2 превышают 0 мм, то есть края эжектора не выходят за края подложки, а упомянутые эжекторы пара имеют прямоугольную или трапециевидную форму и содержат прорезь, а также определяются длиной Le прорези и шириной We прорези, причем упомянутые эжекторы пара имеют одинаковую ось вращения.
Изобретение относится к технологии непрерывного нанесения покрытий из металла или металлического сплава. Способ непрерывного нанесения на движущуюся подложку S покрытий, сформированных по меньшей мере из одного металла, внутри установки 1 для вакуумного осаждения, содержащей вакуумную камеру 2, включает этап, на котором в упомянутой вакуумной камере 2 металлический пар выбрасывают через по меньшей мере один эжектор 3 пара на одну сторону движущейся подложки S1 и на упомянутой стороне формируют слой по меньшей мере из одного металла путем конденсации выброшенного пара, при этом по меньшей мере один эжектор 3 пара расположен под углом α между эжектором 3 пара и осью А, перпендикулярной направлению движения подложки S1, причем ось А находится в плоскости подложки S1, а угол α удовлетворяет следующему уравнению: где α по абсолютному значению больше 0°, D1 и D2 - это наименьшее расстояние между эжектором и каждым краем подложки вдоль оси A, Ws - ширина подложки, D1 и D2 имеют значение более 0 мм, т.е.
Изобретение относится к технологии непрерывного осаждения покрытий, сформированных из одного металла или металлического сплава. Способ непрерывного осаждения на перемещающуюся подложку S покрытий, сформированных по меньшей мере из одного металла внутри установки 1 для вакуумного осаждения, содержащей вакуумную камеру 2, включает этап, на котором в указанной вакуумной камере металлический пар выбрасывается через по меньшей мере два паровых эжектора 3, 3' в направлении к обеим сторонам перемещающейся подложки S, и слой по меньшей мере одного металла формируется на каждой стороне посредством конденсации выбрасываемых паров, причем по меньшей мере два паровых эжектора 3, 3', обращенных друг к другу, позиционируют соответственно под углами α и α', образованными между эжектором пара и осью А, перпендикулярной направлению перемещения подложки, ось которой находится в плоскости подложки S, причем оба угла α и α' удовлетворяют следующим уравнениям:где D1 и D2 - расстояния между эжекторами 3, 3 и каждым краем подложки S вдоль оси A, Ws - ширина подложки, упомянутые эжекторы пара имеют прямоугольную форму или трапециевидную форму и содержат прорезь, определяемую шириной We прорези, упомянутые эжекторы пара имеют одинаковую ось вращения.
Группа изобретений относится к устройству и способу для нанесения покрытия на одну или более деталей методом физического осаждения из газовой фазы (PVD). Устройство содержит по меньшей мере одну камеру подачи, по меньшей мере одну камеру для нанесения покрытия и по меньшей мере один манипулятор с держателем, к которому обеспечена возможность прикрепления одной или более деталей.
Изобретение относится к области машиностроения, в частности к микротекстурированию поверхностного слоя керамических пластин электроэрозионной обработкой, и может быть использовано на заключительном этапе изготовления сменных многогранных керамических пластин на основе α/β-модификаций спеченного сплава SiAlON.
Изобретение относится к способу получения многослойных металлических наноструктурированных покрытий на поверхностях полимерных ионообменных мембран, включающему создание каталитического слоя на мембране из металлов платиновой группы, при этом каталитический слой формируют в виде пористой двухслойной наноструктуры, причем первый нанометровый пористый каталитический слой получают путем вакуумного испарения металла платиновой группы при низких температурах в вакууме при разрежении от 5⋅10-7 до 5⋅10-5 мм рт.
Изобретение относится к защитному покрытию для термически нагружаемой конструкции и может быть использовано для защиты от отложений CMAS в газовых турбинах и других деталях, подверженных воздействию высоких температур.
Изобретение относится к области металлургии, в частности к получению износо-, ударо-, тепло-, трещино- и коррозионностойких покрытий и может быть использовано для повышения надежности и долговечности широкого ассортимента инструмента.
Изобретение относится к устройству для вакуумного непрерывного нанесения на движущуюся подложку покрытий, образованных из металла или металлического сплава. Устройство содержит вакуумную камеру, через которую подложка способна перемещаться по заданной траектории движения, при этом вакуумная камера дополнительно содержит центральный корпус, имеющий входное отверстие и выходное отверстия для подложки, расположенные на двух противоположных сторонах центрального корпуса, и устройство для нанесения покрытия струей пара, при этом внутренние стенки центрального корпуса приспособлены для нагревания при температуре выше температуры конденсации паров металла или металлического сплава, пароотделитель в виде внешнего корпуса, размещенного на выходном отверстии для подложки центрального корпуса, при этом внутренние стенки пароотделителя приспособлены поддерживаться при температуре ниже температуры конденсации паров металла или металлического сплава, при этом канал, соединяющий центральный корпус с пароотделителем, снабжен, по меньшей мере, одним тепловым соединителем, который проходит, по меньшей мере, от внутренних стенок центрального корпуса до внутренних стенок пароотделителя.
Группа изобретений относится к устройству для непрерывного вакуумного нанесения на движущуюся подложку покрытий, образованных из металла или металлического сплава, способу нанесения указанных покрытий и комплекту для сборки указанного устройства.
Изобретение относится к способу получения многослойного износостойкого алмазоподобного покрытия в едином вакуумном цикле с заранее заданными свойствами и может быть использовано в тяжелой и легкой промышленности, транспорте для повышения эксплуатационных характеристик изделий и увеличения их ресурса работы, деталей узлов трения, деталей точного машиностроения.
Изобретение относится к получению тонких пленок ферромагнитного полупроводника монооксида европия (EuO) на кремниевой подложке с получением эпитаксиальной гетероструктуры EuO/Si, при этом упомянутые тонкие пленки могут быть использованы в устройствах спинтроники.
Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение многослойного покрытия.
Предложенная группа изобретений относится к режущему инструменту с покрытием и cпособу его изготовления. Покрытие режущего инструмента включает PVD-слой (A), представляющий собой соединение формулы MexSiyAlzCaNbOc, x+y+z=1, 0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤c≤0,2, a+b+c=1, и 0≤x≤1, 0≤y≤0,4, 0≤z≤0,1, или 0≤x≤1, 0≤y≤0,1, 0≤z≤0,75.
Заявленная группа изобретений относится к металлической подложке с покрытием, способу её изготовления и применению упомянутой металлической подложки с покрытием для изготовления автомобильного транспортного средства.
Изобретение относится к устройству и способу нанесения покрытия с подвижной мишенью. Устройство содержит мишень-источник; несущую мишень-источник секцию, выполненную с возможностью переноса и приведения в движение мишени-источника; секцию инфракрасного измерения температуры, выполненную с возможностью измерения температуры поверхности мишени-источника; секцию инфракрасного нагрева, выполненную с возможностью нагрева мишени-источника; секцию управления, выполненную с возможностью приема сигнала измерения от секции инфракрасного измерения температуры и определения того, является ли температура поверхности мишени-источника равномерной или нет.
Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения слоев алмаза большой площади на подложках из монокристаллического кремния. Способ выращивания слоев алмаза, включающий нагрев в вакуумной среде в диапазоне температур от 910°С до 1150°С порошка алмазов в графитовой лодочке, над поверхностью которой размещена пластина монокристаллического кремния, причем лодочка с пластиной размещена в зазоре между двумя параллельными пластинами из углеродной фольги, прогреваемыми прямым пропусканием переменного электрического тока, а величина тока в верхней пластине меньше, чем в нижней.
Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение многослойного покрытия.
Изобретение относится к способам нанесения износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение износостойкого покрытия из нитрида или карбонитрида соединения ниобия, титана и хрома при их соотношении, ат.%: ниобий 51,3, титан 36,3, хром 12,4.
Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение многослойного покрытия.
Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение многослойного покрытия.
Изобретение относится к способам нанесения износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение износостойкого покрытия из нитрида или карбонитрида соединения ниобия, титана и кремния при их соотношении, ат.%: ниобий 52,5, титан 45,3, кремний 2,2.
Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий на режущий инструмент и может быть использовано в металлообработке. Проводят вакуумно-плазменное нанесение многослойного покрытия.