Невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие двойные углерод-углеродные связи, например этиленовые соединения (G03F7/027)

G   Физика(403185)
G03F7/027                     Невысокомолекулярные фотополимеризующиеся соединения, имеющие двойные углерод-углеродные связи, например этиленовые соединения ( G03F7/075 имеет преимущество)(10)

Пригодные для печати композиции, включающие высоковязкие компоненты, и способы создания 3d изделий из этих композиций // 2715224
Настоящее изобретение относится к способу создания трехмерного объекта, пригодной для печати композиции и к стереолитографическому устройству. Указанный способ включает стадии, на которых а) обеспечивают пригодную для печати композицию; b) селективно отверждают пригодную для печати композицию с образованием изделия, представляющего форму трехмерного объекта; с) удаляют значительное количество временного растворителя из изделия; и d) необязательно отверждают незаполимеризованный полимеризуемый компонент, оставшийся до или после стадии с).

Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии // 2685211
Изобретение относится к жидкой фотополимеризующейся композиции (ФПК) для лазерной стереолитографии. Композиция содержит 96-98 вес.% смеси ди(мет)-акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера и 2-4 вес.% фотоинициатора 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенона.

Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии // 2684387
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях быстрого получения термостойких изделий методом лазерной стереолитографии. Описывается фотополимерная композиция, включающая акриламидные компоненты, фотоинициатор - 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1 и поли-м-фениленизофталамид в качестве термостойкой матрицы.

Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии // 2646088
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях получения изделий методом лазерной стереолитографии. Композиция включает поли(N-аллил(2,2'-м-фенилен)-5,5'-дибензимидазолоксид), N,N'-диметилакриламид, акриламидный компонент, выбранный из 4,4'-дифенилфталиддиакриламида, 4,4'-оксидифенилдиакриламида, диакриламид[ди(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, диакриламид[пента(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, и фотоинициатор 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1.

Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе сложных эфиров // 2568189
Изобретения касаются фотополимерной композиции, включающей полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, и применения этой фотополимерной композиции для изготовления голографических сред. Описана фотополимерная композиция для изготовления голографических сред, включающая полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, причем полимеры матрицы представляют собой полиуретаны, которые получаются в результате взаимодействия изоцианатного компонента а) с компонентом b), реакционноспособным по отношению к изоцианатам, который в среднем содержит в молекуле по меньшей мере 1,5 групп, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, причем записывающие мономеры содержат ароматические соединения формулы (I), в которой по меньшей мере один из остатков R1, R2, R3, R4, R5, R6 представляет собой соединенный через X с ароматическим кольцом остаток формулы (II), причем в формуле (II) А является линейной или разветвленной, при необходимости содержащей кислород углеводородной цепью, остальные остатки R1, R2, R3, R4, R5, R6 соответственно независимо друг от друга представляют собой атом водорода или органический остаток, a R7 является атомом водорода или метилом.

Фотополимерные композиции с регулируемым механическим модулем guv // 2542975
Изобретение относится к способу изготовления экспонированных голографических сред. Голографическая среда содержит фотополимерную композицию с регулируемым механическим модулем GUV в пределах от 0,1 до 160 МПа и Δn≥0,008.

Жидкая композиция для фотополимеризационноспособной пленки для записи голограммы, способ получения композиции, способ получения вышеуказанной пленки // 2541521
Изобретения относятся к жидкой композиции для получения фотополимеризационноспособной пленки для записи голограмм, способу получения такой жидкой композиции и способу получения фотополимеризационноспособной пленки.

Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии // 2395827
Изобретение относится к жидким фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях быстрого изготовления моделей-прототипов методом лазерной стереолитографии. .

Фотополимерная композиция для записи голограмм // 2222038
Изобретение относится к области записи информации на основе реакции полимеризации, а именно голографической записи. .

Фотополимеризующаяся защитная маска // 1550745
Изобретение относится к фотозащитным покрытиям в электронной промышленности, в частности к созданию защитной маски для нанесения локальных гальванических покрытий и при проведении пайки волной припоя в технологии изготовления печатных плат методом трафаретной печати.
 
.
Наверх