Полиамидами или полиимидами (G03F7/037)
G Физика(403185)
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография (воспроизведение изображений или образов путем развертки и преобразования в электрический сигнал H04N)
(10965)
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G03C; электрография, чувствительные слои или процессы G03G)
(960)
G03F7 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B44C,H01L, а также рубрики, например H01L21,H05K)
(566)
G03F7/037 Полиамидами или полиимидами(3)
Настоящее изобретение относится к светочувствительной смоляной композиции для оригинальной формы для высокой печати, а также к полученной из нее оригинальной формы для высокой печати. Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати содержит в качестве основных компонентов растворимый в воде или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет от 30 до 90 мол.%, при этом среди алициклических структурных звеньев полиамида содержание алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 мол.% или более, а также оригинальная форма для высокой печати с использованием указанной композиции.
Сухой пленочный фоторезист // 2190871
Изобретение относится к сухим пленочным фоторезистам, которые используются для получения защитных селективных покрытий прецизионных печатных плат и гибридных интегральных схем. .
Сухой пленочный фоторезист // 2190870
Сухой пленочный фоторезист // 2190869
Изобретение относится к сухим пленочным фоторезистам, которые используются для получения защитных рельефов при изготовлении микросхем и плат печатного монтажа. .
