Кремнийсодержащие соединения (G03F7/075)

G   Физика(403185)
G03F7/075                     Кремнийсодержащие соединения(9)
Термостойкий фоторезист // 2549532
Изобретение относится к термостойкому фоторезисту, содержащему реакционный раствор поли(о-гидроксиамида) - продукта поликонденсации дихлорида изофталевой кислоты и 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана или смеси 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис -(3-аминопропил)диметил-силоксана, взятых в соотношении от 9:1 до 1:9 мол.

Способ обработки поверхности монокристаллического кремния ориентации (111) // 2501057
Изобретение относится к области микроэлектроники, фотовольтаики, к не литографическим технологиям структурирования кремниевых подложек, в частности к способам структурирования поверхности монокристаллического кремния с помощью лазера.
Способ получения термостойкого материала для создания матричной триады светофильтров // 2404446
Изобретение относится к способу получения материала для формирования матричной триады светофильтров, предназначенных для создания активно-матричных жидкокристаллических экранов. .
Способ получения термостойкого позитивного фоторезиста // 2379731
Изобретение относится к способу получения термостойкого позитивного фоторезиста, который используется в качестве защитного покрытия и межслойной изоляции в многоуровневых электронных приборах и устройствах.

Фоточувствительная смола для гравируемой лазером печатной матрицы // 2327195
Изобретение относится к гравируемой лазером печатной матрице, используемой для получения рельефного изображения известными методами. .

Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления // 2281310
Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации.

Универсальная фотополимеризующаяся композиция паяльной маски для печатных плат с повышенными эксплуатационными характеристиками // 2192661
Изобретение относится к фотополимеризующейся композиции пленочной паяльной маски для электронных печатных плат. .

Полиорганосиланы и двухслойная позитивная маска для фотолитографии на основе полиорганосилана // 2118964
Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10).
 
.
Наверх