Для образования на них диэлектрических слоев, например для маскирования или с использованием фотолитографической технологии и последующая обработка этих слоев (H01L21/469)

H01L21/469              Для образования на них диэлектрических слоев, например для маскирования или с использованием фотолитографической технологии (слоев, образующих электроды H01L21/44, герметизирующих слоев H01L21/56); последующая обработка этих слоев(2)

Формирование рисунка стека // 2775057
Изобретение относится к способу формирования стека слоев, образующего собой электрическую схему и содержащего ряд уровней неорганических межсоединений. Технический результат - снижение степени разрушения рисунка нижнего слоя межсоединений при травлении слоев вышележащего уровня межсоединений кислотным травителем после этапа нанесения нижележащего диэлектрического слоя за счет применения в качестве диэлектрического слоя несшитого органического полимерного материала.
Состав для защитного покрытия полупроводниковых приборов // 574063
Изобретение относится к электронной технике, а именно к технологии полупроводниковых приборов, в частности к защитным теплостойким покрытиям и может быть использовано в полупроводниковых термопечатающих приборах.
 
.
Наверх