Электронно-лучевые или ионно-лучевые приборы для местной обработки объектов (H01J37/30)

H01J     Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы (искровые разрядники H01T; дуговые лампы с расходуемыми электродами H05B; ускорители элементарных частиц H05H) (10498)
H01J37        Разрядные приборы с устройствами для ввода объектов или материалов, подлежащих воздействию разряда, например с целью их исследования или обработки (H01J33,H01J40,H01J41,H01J47,H01J49 имеют преимущество; исследование или анализ поверхностных структур на атомном уровне с использованием техники сканирующего зонда G01N13/10, например растровая туннельная микроскопия G01N13/12; бесконтактные испытания электронных схем с использованием электронных пучков G01R31/305; детали устройств, использующих метод сканирующего зонда вообще G12B21) (805)
H01J37/30                     Электронно-лучевые или ионно-лучевые приборы для местной обработки объектов(63)

Устройство для электронно-лучевой литографии // 2791181
Изобретение относится к оборудованию для создания устройств микроэлектроники с помощью технологии электронно-лучевой литографии. Устройство для электронно-лучевой литографии (фиг.1) содержит: электронно-оптическую систему 1 с блоком контроля интенсивности электронного луча 2; координатный столик 3 с электроприводом 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5; управляющий компьютер 6; генератор изображений 7; драйвер координатного столика 8; драйвер генератора изображений 9, при этом входы управления параметрами электронного луча электронно-оптической системы 1 подключены к соответствующим выходам генератора изображений 7, вход которого соединён с выходом блока контроля интенсивности электронного луча 2, а порт обмена данными связан по оптоволоконной линии связи через драйвер генератора изображений 9 с управляющим компьютером 6, который другим своим портом обмена данными через драйвер координатного столика 8 соединён с электроприводом координатного столика 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5.

Способ электронно-лучевой сварки с осцилляцией луча // 2760201
Изобретение относится к способу электронно-лучевой сварки. Способ включает перемещение электронного луча со скоростью сварки Vсв и осцилляцию электронного луча в виде пилообразных колебаний вдоль стыка свариваемых деталей с формированием сварочной ванны и парогазового канала заданной глубины.

Катодно-подогревательный узел для электронно-лучевой пушки // 2756845
Изобретение относится к электротехнике, в частности к приборам и устройствам для термообработки материалов и изделий в вакууме и может быть использовано в конструкции электронно-лучевой пушки для плавки тугоплавких металлов.

Электронно-лучевая пушка с повышенным ресурсом эксплуатации // 2709793
Изобретение относится к электронике и электротехнике в области термообработки металлов с целью их вакуумного плавления, испарения, наплавления, сварки, резки, для аддитивных технологий. Электронно-лучевая пушка содержит катодный каскад в корпусе с собирающей линзой, анод и лучевод с фокусирующими и отклоняющими линзами, тепловые изоляторы, токоподводы и систему водоохлаждения.

Вакуумная ионно-плазменная установка для нанесения покрытий на поверхность металлических внутрисосудистых стентов, преимущественно из оксинитрида титана // 2705839
Изобретение относится к ионно-плазменной установке для нанесения покрытий на поверхность металлических внутрисосудистых стентов, преимущественно из оксинитрида титана. Установка содержит шлюзовую камеру (6) с рабочим столом (8) для загрузки изделий, генератор газовой плазмы (7) для предварительной ионно-плазменной обработки изделий, цилиндрическую вакуумную камеру (1) с аксиально расположенной внутри ее объема дуальной магнетронной распылительной системой (МРС), верхнюю крышку (4) для присоединения затвора (5) шлюзовой камеры (6), высоковакуумную откачную систему, трехканальную систему подачи газов (11), систему автоматического управления (16), средства контроля технологического процесса, а также источники питания: МРС (12), потенциала смещения рабочего стола (13), накала катода (14) и газового разряда (15) генератора плазмы.

Способ электронно-лучевой наплавки с контролем положения присадочной проволоки относительно электронного луча (варианты) // 2704682
Изобретение относится к способу электронно-лучевой наплавки с оперативным контролем положения присадочной проволоки относительно электронного луча. Способ содержит этапы, на которых электронно-лучевую наплавку проводят с непрерывной осцилляцией электронного луча по траектории, имеющей пересечение с присадочной проволокой.

Устройство для поверхностной обработки массивных металлических изделий // 2688190
Изобретение относится к области модификации поверхностных слоев материалов импульсными электронными пучками и может быть использовано для улучшения их физико-химических свойств (коррозионной стойкости, жаростойкости и др.).

Способ определения изменения положения точки падения энергетического пучка на ограниченной поверхности // 2683250
Способ определения изменения положения точки падения непрерывного или импульсного энергетического пучка на ограниченной поверхности, который периодически перемещается по поверхности с помощью отклоняющего устройства, включает операции определения поверхности с помощью камеры, имеющей множество отдельно вычисляемых пикселей в плоскости изображения, при этом каждая точка поверхности ассоциируется с пикселем, оценки определяемых камерой характеристик изображения с помощью узла анализа изображений.
Способ установки ионного источника относительно обрабатываемой детали // 2608382
Изобретение относится к ионно-лучевой обработке крупногабаритных оптических деталей. Технический результат – повышение точности обработки поверхности деталей.

Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры // 2562909
Изобретение относится к мишени для электродугового источника (ARC) с первым телом (3) из подлежащего испарению материала, которое содержит по существу в одной плоскости предусмотренную для испарения поверхность, при этом поверхность в этой плоскости окружает центральную зону.

Установка для нанесения покрытий на подложки путем электронно-лучевого физического осаждения из паровой фазы // 2556197
Изобретение относится к установке для нанесения покрытий на подложки путем электронно-лучевого физического осаждения из паровой фазы. Установка содержит тигельное устройство, содержащее по меньшей мере два тигля, расположенных со смещением друг относительно друга в горизонтальной плоскости.

Устройство для ионно-лучевой обработки внутренних поверхностей волноводов миллиметрового диапазона // 2467430
Изобретение относится к технике ионно-лучевой обработки изделий. .

Способ и устройство для изготовления очищенных подложек или чистых подложек, подвергающихся дополнительной обработке // 2423754
Изобретение относится к изготовлению по меньшей мере одной очищенной подложки, особенно, очищенных таким образом режущих частей инструментов, очищенные подложки которых могут быть подвергнуты дополнительной технологической обработке до и/или после очистки, например, посредством нагрева и/или нанесением на них покрытия.

Плазменный эмиттер заряженных частиц // 2408948
Изобретение относится к технике получения электронных и ионных пучков и может быть использовано в электронных и ионных источниках, генерирующих пучки с большим поперечным сечением. .

Двухпучковый ионный источник // 2407100
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к источникам получения пучка ионов, и может быть использовано в ионно-лучевых технологиях для модификации поверхностей изделий и для нанесения на них тонких пленок SiC, AIN, твердых растворов на их основе и т.д.

Электронно-лучевая пушка для нагрева материалов в вакууме // 2314593
Изобретение относится к электротехнике, в частности к приборам и устройствам для термообработки материалов и изделий. .

Усовершенствование процесса удаления резиста в установке для травления диэлектрика с использованием пучка плазмы // 2279732
Изобретение относится к области изготовления полупроводниковых приборов. .

Электронно-лучевая установка // 2192687
Изобретение относится к приборам для электронно-лучевой обработки объектов и может использоваться для обработки изделий электронным лучом как при вертикальном, так и при горизонтальном положении рабочей камеры и лучевого тракта, в том числе в условиях низкого вакуума в рабочей камере.

Передвижное устройство для электронно-лучевой терапии и лечебный комплекс для электронно-лучевой терапии // 2142827
Изобретение относится к операционной радиационной терапии и, в частности, к передвижному устройству для операционной электронно-лучевой терапии. .

Способ обработки материалов микролептонным излучением и устройство для его реализации // 2138139
Изобретение относится к области технологии и техники обработки материалов микролептонным излучением. .

Устройство для облучения объекта пучком заряженных частиц // 2119731
Изобретение относится к области электротехники, а именно к электромагнитным устройствам развертки пучка, которые используются для облучения различных объектов. .

Способ нанесения покрытий в вакууме и устройство для его осуществления // 2091989
Изобретение относится к нанесению вакуумных покрытий, а именно к способам и устройствам для генерации плазмы электропроводящих материалов, предназначенных для нанесения покрытий в вакууме осаждением конденсата из плазменной фазы, и может быть использовано в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве, в электронной технике и других областях народного хозяйства.
Электронно-лучевая установка // 2080684
Изобретение относится к области электронно-лучевой технологии и может найти применение в любой электронно-лучевой установке (плавильной, сварочной, напылительной и т.п.), технологическая камера которой снабжена системой вакуумной откачки.

Устройство для нагрева и плавления тугоплавкого вещества // 2007778
Изобретение относится к области технологии, связанной с тепловой обработкой, плавлением материалов. .

Способ восстанавливающего контроля микроструктур // 1711259
Изобретение относится к технологии .электронноили ионно-лучевого контроля и восстановления микроэлектронных структур и может быть использовано при произИзобретение относится к технологии электронноили ионно-лучевого контроля и восстановления микрозлектронных структур и может быть использовано при производстве изделий электронной техники.

Устройство для создания пучка заряженных частиц с изменяемой формой сечения // 1677734
Изобретение относится к электроннооптическим и ионно-оптическим устройствам с изменяемой формой сечения пучка и может быть использовано в установках электроннои ионно-лучевой литографии. .

Устройство для бесконтактного измерения тока // 1503019
Изобретение относится к бесконтактным методам измерения тока. .

Способ корпускулярного облучения мишени и устройство для его осуществления // 1448370
Изобретение относится к элионной технике, в частности к электронному облучению мишени,и может быть использовано, в частности, в эле- .-лучевых приборах для микролитографического структурирования тонких слоев при изготовлении конструктивных элементов с размерами в субмикронном диапазоне.

Устройство для обработки оптических поверхностей изделий // 1380527
Изобретение относится к изготовлению прецизионных поверхностей изделий и позволяет повысить точность обработки изделий. .

Устройство для измерения поля отклонений от плоскостности поверхности твердого тела // 1364865
Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения поля отклонений от плоскостности поверхности твердого тела и микрогеометрии поверхности. .

Способ управления режимом лучевой установки // 1308163
Изобретение относится к электротехнике. .

Способ корпускулярного облучения мешени и устройство для его осуществления // 1287244
Изобретение относится к лучевой технологии. .

Видеоконтрольное устройство растрового электронного микроскопа с системой развертки изображения // 1218425
Изобретение относится к электронно-оптическому приборостроению и может быть использовано в видеоконтрольньпс установках растровых электронных микроскопов. .
 
.
Наверх