Содержащим эксимеры или эксиплексы (H01S3/225)
H Электричество(232322)
H01S Устройства со стимулированным излучением(2374)
H01S3/225 Содержащим эксимеры или эксиплексы(15)
Составной резонатор эксимерного лазера // 2607815
Составной резонатор эксимерного лазера содержит разрядную камеру, выходной модуль, модуль сужения спектральной линии излучения и модуль усиления излучения. Разрядная камера лазера содержит рабочий газ для генерации излучения под действием источника возбуждения.
Изобретение относится к лазерной технике. Эксимерный лазер содержит внешний корпус, обрамляющий заполненную рабочей средой лазерную камеру с газодинамическим трактом, два газоразрядных модуля, систему прокачки и охлаждения газового потока через эти модули и систему питания газоразрядных модулей.
Оптико-механическая система // 2583163
Оптико-механическая система содержит плоское отражающее зеркало, установленное с возможностью изменения своего положения под действием механизма перемещения таким образом, что в одном устойчивом положении обеспечивается прохождение светового луча от источника излучения в выходное окно, а в другом - его отклонение в ловушку.
Способ создания активной среды krf лазера // 2575142
Способ создания активной среды KrF лазера включает в себя зажигание объемного разряда в лазерной смеси после подачи импульсного напряжения на разрядный промежуток, включение искровой предыонизации, создающей предварительную ионизацию газа в разрядном промежутке, и пробой разрядного промежутка.
Эксимерный лазер // 2467442
Изобретение относится к квантовой электронике, в частности к компактным импульсно-периодическим эксимерным лазерам с УФ предыонизацией. .
Изобретение относится к лазерной технике, а именно к эксимерным лазерам с узкой полосой излучения с частотой импульсов 500-2000 Гц. .
Изобретение относится к лазерной технике, а именно - к лазерам, используемым для долговременной круглосуточной работы при производстве интегральных микросхем способом литографии. .
Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано для поддержания выходной мощности и увеличения ресурса работы ксенон-хлоридного лазера путем химической регенерации его газовой среды. .
Генератор синглетного кислорода // 2091938
Изобретение относится к квантовой электронике, преимущественно к химическим лазерам непрерывного действия, и может быть использовано при создании йодно-кислородного лазера многоцелевого назначения для получения синглетного кислорода-энергоносителя лазеров этого типа.
Способ получения синглетного кислорода // 2090966
Изобретение относится к квантовой электронике, преимущественно к химическим лазерам непрерывного действия, и может быть использовано при создании иодно-кислородного лазера многоцелевого назначения для получения синглетного кислорода энергоносителя лазеров этого типа.
Способ получения синглетного кислорода // 2076416
Изобретение относится к квантовой электронике, преимущественно к химическим лазерам непрерывного действия, может быть использовано при создании иодно-кислородного лазера многоцелевого назначения для получения сингетного кислорода энергоносителя лазеров этого типа.
Способ получения синглетного кислорода // 2069931
Изобретение относится к квантовой электронике, преимущественно к химическим лазерам непрерывного действия, и может быть использовано при создании иодно-кислородного лазера многоцелевого назначения для получения синглетного кислорода энергоносителя лазеров этого типа.
Генератор синглетного кислорода для химического иодно- кислородного лазера непрерывного действия // 2038667
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при создании химических иодно-кислородных лазеров непрерывного действия различного назначения. .
Изобретение относится к квантовой электронике. .
