Стекло
СТЕКЛО, включакшее SiO, BjO ВаО, от ли ч а ю щ е е с я тем, .что,-с целью улучпюиия гщгезии стекла к станнатной пленке, оно дополнительно содержит SnO и °СаО при следующем соотношении компонентов, мае. %: 43-45 Si0.a 15-17 B.Om 9-10 25-27 Вас 1-2 ЗпОл СаО 2-3 g
СОЮЗ СОВЕТСКИХ .СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК
3(50 С 03 С 3/10
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н IIBTOPCKOMV Саищтюаатвм
/ т", SiO
В О . А1 8 ВаО
SnOg
СаО
43-45
15-17
9-10
25-27
1-2
2-3
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОЧНРЫТИЙ (21) 3487860/29-33 (22) 23 ° 06.82 (46) 07.10.83. Бвл. 9 37 (72) Н.К. Немкович, A.Í. Шиленко, О.В. Невар, Д.А. Клименская, И.П-. Лепик и A.È. Адер (71) Белорусский ордена Трудового
Красного Знамени политехнический институт (53) 666.112.93(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР. по заявке Ю 3289817/29-33, кл. С 03 С 3/10, 1981.
2. Авторское свидетельство СССР по заявке В 3398305/29-33, кл. С 03 С 3/10, 1981 (прототип).
„„SU„„1046209 А (54) (57) СТЕКЛО, вклвчавщее -SiO>, В 03, АУ20, ВаО, о т л и ч а вщ е е с я тем, .что, с целью улучыения адгеэии стекла к станнатной пленке, оно дополнительно содераит SnO> и t .a0 при следукщем соотношении компонентов, мас. %1
1046209
Состав, мас. %
Наименование компонентов и свойства
Прототип
1 . 2
:45,0
44,0.47,8-49,.9
43,0
S i0>.
2 3
АУ,О3
16,0
15,0 .
17., 0
9,7-13,5
10,0-10,5
28,7-29,9
10,0
10,0 9,0
27,0
ВаО
25>0
26,0
3,0
2,0
3„0
СаО
1,0
Sn0>
2,0
2,0
1500
1 50.0
1500
1300
1300
13О0
1300.
Температура размяг чения, С
6.80+ 20
670410
670+10 670410
80Оф10 800+10
820
800+10
Изобретение относится к технолоФ . гии силикатов и предназначается для . использования его в электронике и качестве износостойкого диэлектрика в микросхемах специального назначе- ния.
Ф
Известно стекло, содержащее, мас. %: Si02 45,5-47,5; Af>Og 9,410 3 В203 6 0-7,0; ВаО 35,2-39,1
1).
Это стекло иэ-за повышенных значений коэффициента теплового расширения и температуры. размягчения . при формировании рельефа .на подложках иэ стекла СТ-50 с КТР 52 ° 1(Г град " не позволяет получать покрытие беэ трещин и деформации ситалловой подложки при обжиге покрытия.
Наиболее близким к изобретению. является стекло, включающее, мас.%г
$ i0 47, 8-49, 9; ВйО 9,7-13., 5 .
АХф > 10„0-10,5; Ba8 28,7-29,9 Г2 Х 26
Данное стекло ло основным физи-. ко-.химическим свойствам удовлетворяет требованиям для получения созместимого с ситалловой подложкой иэ
CT-50 проплавленнога при 800 С - ." 25 .стеклообразного покрытия.
Однако из-за .низкой адгезии это-. го стекла к станнатной пленке, которая должна наноситься иа сформи-.
Температура варки, С 1500
Температура вырабОт"< ки, С
Температура получения ,проплавленного покры-. .тия, С рованное по ситалллу стеклообраэное покрытие, обраэует слабое .сцепле- . ние с укаэанной пленкой и вследствие этого не может быть использова- . но в качестве материала рельефа в паре co SnO> при производстве микросхем спецназначения .
Цель изобретения — улучшение адгезии стекла к станнатной пленке..
Поставленная цель достигается тем, что, стекло, включающее SiO ., Bg03, АЕ ОЗ, ВаО, дополнительно содержит SnO> и СаО при следующем соот . ношении компонентов, мас. %:
Slots 43-45
В Оз . 15-17
АУ 03 . 9-10
ВаО 25-27
SnO2
1-2
СаО. 2-3
Введение SnO@ и Са0 позволяет улучшить адгезию стекла к стаинат.ной пленке за счет увеличения хими. ческого сродства между оловосодер-.. жащим стеклом и пленкой из Sn0 и снижения его вязкости с помощью до. бавки СаО.
Конкретные составы стекол и их свойства представлены в таблице.
1046209
Продолжение таблицы
Прототип.
Н аимен ова ни е компонентов и свойства е
Состав, мас.%
I Г 2
Кристаллизационная способность, С
4.Не кристаллизуются
50+1
48+1
50+1
50+1
4 . 10+ . 1012.10
Химическая устойчи вость .(потери массы) по отношению к
0,12
0.,04-0, 14
0,35-О,90
1,91-3,51
0,09
0,07
Н20
1 н. HCL О, 96
0,55
0,81,1,85
1 í. NaOH
2,93.
3,47.ВНИИПИ Заказ 7644 2.
Филиал ППП "Патент", г
Коэффициент теплового расширения
g-10, град 1
Удельное электричес.кое сопротивление при,300 С, Ом см,Цля синтеза указанных стекол используется обычная технология производства, включающая составление шихты, варку стекла в газовой печи в кварцевых тиглях при 1500 С, .выработку иэделий методами отливки, выдувания, вытягивания. и прессования с последующим их отжигом в электрических муфельных печах.
Технология получения рельефных покрытий из предлагаемого стекла по ситаллу СТ-50.для микросхем спецназначения .
На подготовленную согласно требованиям ситалловую подложку методом седиментации из суснензии, содержащей тонкодисперсный порошок стекла, наносится два слоя стекла требуемой конфигурацин толщиной
10 мкм каждый. Обжиг стеклообраз, ных слоев производится в конвейерной печи при 800 C. На стеклованную поверхность методом гидропиролиэа из хлористых солей олова и сурьмы наносится при 700 С окис.нооловяииая пленка. Методом фото; ..дитографии получают резистор с определенной величиной номинала сопротивления. Вакуумным напылением сло,ев. Cr-Gu-Cr с последующей фотолитографией получают коммутационные ,проводники и шины, часть которых облуживается для удобства присоеди.", нения.кабеля.
Серьезное значение в технологии изготовления микросхеМ имеет адгеэия стекла к станнатной пленке.
Предварительная проверка качест ва.адгезии окиснооловяиной.пленки к стеклу проверяется методом ца4О рапания стальной иглой. Станнатная пленка с поверхности стекла-прототипа царапается легко, а с предлагаемого — ее практически отделить невозможно. В дальнейшем качество
45 адгезии стекла к станнатной -плейке подтверждается при испытаниях в процессе эксплуатации. УсловИЯ испытаний: образцы пленок в нагретом состоянии прижимаются к.термо чувствительной бумаге, которая движется по резиновому валику c оп-ределенной скоростью в течение 20 ч.
На стекле-прототипе при испытаниях наблюдаются грубые сколы станнатной
55 пленки, на предлагаемом - сколов . пленки практически нет, что свидетельствует о более высокой его адгезии к станнатной пленке по сравнению с прототипом и позволяет ис6О пользовать его.в качестве рельефа ,:.в паре со SnO при производстве . микросхем спецназначения.
О Тираж 486 Поцписное
Ужгород, ул. Проектная, 4 .
