Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм
Авторы патента:
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм, включающая ацетосукцинат целлюлозы, триэтиленгликольдиметакрилат, глицидилметакрилат, 1-хлорантрахинон, тетра(оксипропил)этилендиамин, глицерин, полиоксиэтилен (мол.м. 4500 - 5000), спирт этиловый и ацетон, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности, она дополнительно содержит смесь монометакрилата глицерина, диметакрилата глицерина, триметакрилата глицерина, тетраметакрилата глицерина, пентаметакрилата глицерина и гексаметакрилата глицерина при следующем соотношении компонентов, мас.ч.: Ацетосукцинат целлюлозы - 95 - 105 Триэтиленгликольдиметакрилат - 18 - 22 Глицидилметакрилат - 9 - 16 1-Хлорантрахинон - 0,15 - 0,16 Тетра(оксипропил)этилендиамин - 0,8 - 1 Глицерин - 1,8 - 8,5 Полиоксиэтилен - 15 - 40 Спирт этиловый - 60 - 70 Ацетон - 335 - 385
Монометакрилат глицерина - 0,04 - 0,55
Диметакрилат глицерина - 0,20 - 1,59
Триметакрилат глицерина - 0,06 - 0,38
Тетраметакрилат глицерина - 0,32 - 2,86
Пентаметакрилат глицерина - 0,01 - 0,22
Гексаметакрилат глицерина - 0,37 - 4,40
Похожие патенты:
Способ изготовления печатных форм // 166931
Изобретение относится к области записи информации на основе реакции полимеризации, а именно голографической записи
Изобретение относится к жидким фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях быстрого изготовления моделей-прототипов методом лазерной стереолитографии
Фотополимеризующаяся защитная маска // 1550745
Изобретение относится к фотозащитным покрытиям в электронной промышленности, в частности к созданию защитной маски для нанесения локальных гальванических покрытий и при проведении пайки волной припоя в технологии изготовления печатных плат методом трафаретной печати
Фотополимеризуемая композиция // 1789540
Изобретения относятся к жидкой композиции для получения фотополимеризационноспособной пленки для записи голограмм, способу получения такой жидкой композиции и способу получения фотополимеризационноспособной пленки. Предлагаемая фотополимеризационноспособная пленка формирует изображение за счет модуляции показателя преломления при экспозиции активирующим облучением с длиной волны 325-550 нм. Композиция содержит от 30 до 69.45 вес.% жидкого акрилового мономера, имеющего по крайней мере одну кислотную группу СООН и относящегося к карбоновым кислотам, от 30 до 69,45 вес.% олигомеров моно- и диакрилатов, от 0,5 до 25 вес.% наночастиц оксидов цинка, или кремния, или титана или сульфидов металлов ZnS или CdS, покрытых или не покрытых органическими оболочками и имеющих размер от 2 до 30 нм, от 0,05 до 5 вес.% инициатора фотополимеризации. Технический результат - повышение величины модуляции показателя преломления, повышение дифракционной эффективности до 60% и увеличение толщины до 30 мкм получаемой фотополимеризационноспособной пленки, что обеспечивается благодаря использованию в композиции высокорефрактивных наночастиц, фотостимулированная диффузия которых создает модуляцию показателя преломления. 3 н.п. ф-лы, 3 табл., 8 пр.
Изобретение относится к способу изготовления экспонированных голографических сред. Голографическая среда содержит фотополимерную композицию с регулируемым механическим модулем GUV в пределах от 0,1 до 160 МПа и Δn≥0,008. Способ включает: i. приготовление фотополимерной композиции, включающей в себя: A) полимеры матрицы в виде аморфной сетчатой структуры, B) комбинацию одного монофункционального записывающего мономера и одного мультифункционального записывающего мономера, C) фотоинициирующую систему, D) необязательно компонент, не способный к фотополимеризации, Е) при необходимости катализаторы, стабилизаторы радикалов, растворители, присадки, а также прочие вспомогательные и/или дополнительные вещества; ii. придание фотополимерной композиции формы среды; iii. проведение над средами эксперимента по голографической экспозиции, чтобы записать голограмму, и iv. освещение всей среды УФ-излучением, чтобы зафиксировать голограмму. Записывающие мономеры представляют собой соединения с акрилатными и/или метакрилатными функциональными группами. Общее содержание записывающих мономеров в фотополимерной композиции составляет не менее 30% масс. и не более 45% масс. Неэкспонированная фотополимерная композиция имеет модуль G0<0,7 МПа, а модуль GUV экспонированной фотополимерной композиции через отношение относительной доли монофункционального записывающего мономера к относительной доле мультифункционального записывающего мономера в общем содержании записывающих мономеров регулируют в предусмотренной области от 0,1 до 160 МПа таким образом, что высокий модуль обеспечивают посредством высокой относительной доли мультифункционального записывающего мономера, а низкий модуль - посредством высокой относительной доли монофункционального записывающего мономера в общем содержании записывающих мономеров. Технический результат - получение голографических сред с переменным в области между 0,1 и 160 МПа GUV и показателем Δn не менее 0,008. 15 з.п. ф-лы, 4 табл., 17 ил.
Изобретения касаются фотополимерной композиции, включающей полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, и применения этой фотополимерной композиции для изготовления голографических сред. Описана фотополимерная композиция для изготовления голографических сред, включающая полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, причем полимеры матрицы представляют собой полиуретаны, которые получаются в результате взаимодействия изоцианатного компонента а) с компонентом b), реакционноспособным по отношению к изоцианатам, который в среднем содержит в молекуле по меньшей мере 1,5 групп, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, причем записывающие мономеры содержат ароматические соединения формулы (I), в которой по меньшей мере один из остатков R1, R2, R3, R4, R5, R6 представляет собой соединенный через X с ароматическим кольцом остаток формулы (II), причем в формуле (II) А является линейной или разветвленной, при необходимости содержащей кислород углеводородной цепью, остальные остатки R1, R2, R3, R4, R5, R6 соответственно независимо друг от друга представляют собой атом водорода или органический остаток, a R7 является атомом водорода или метилом. Также описано применение указанной фотополимерной композиции для изготовления голографических сред, особенно для изготовления осевых голограмм, внеосевых голограмм, голограмм сфокусированного изображения, голограмм, восстанавливаемых в белом свете, голограмм Денисюка, внеосевых отражательных голограмм, голограмм краевого освещения, а также голографических стереограмм.
Технический результат - получение фотополимерной композиции, которая может содержать более высокую концентрацию записывающих мономеров в сравнении с известными композициями, без того, чтобы возникали какие-либо отрицательные эффекты, и одновременно с помощью которой могут получаться яркие голограммы. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 6 пр., 1 табл., 2 ил.
Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии // 2646088
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для использования в технологиях получения изделий методом лазерной стереолитографии. Композиция включает поли(N-аллил(2,2'-м-фенилен)-5,5'-дибензимидазолоксид), N,N'-диметилакриламид, акриламидный компонент, выбранный из 4,4'-дифенилфталиддиакриламида, 4,4'-оксидифенилдиакриламида, диакриламид[ди(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, диакриламид[пента(4,4'-дифенилоксидизофталоиламидо)]-фенил-4'-фенилоксида, и фотоинициатор 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутанон-1. Предложенная композиция обладает достаточной фоточувствительностью для изготовления трехмерных изделий с термостойкостью 380-440°С произвольной формы в условиях лазерной 3D-стереолитографии с использованием экономичных и малогабаритных лазеров с λ=405 нм. 4 пр.
