Рентгеночувствительный экран

 

РЕНТГЕНОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ ЭКРАН , выполненный в виде конденсаторной структуры, содержащей нанесенные на металлическую подложку слои выполненного из стекла диэлектрика, люминофора и прозрачного электрода, отличающийся тем, что, с целью повьнаения чувствительности и упрощения технологии изготовления, в стекло диэлектрика введена двуокись титана в количестве 40-60% по массе.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

О НО

РЕСПУБЛИК ав (1)) д1Д1 6 21 К 4/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТ%9

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОТСНОНУ СВНЮТВВВСТВУ

1 \ С

Ф\

С °

° В

\ (21) 2937982/18-25 (22) 30.05.80 (46) 23.09.84. Бюл. У 35 (72) В.Е.Евстишенкова, Г.Ю.Коржова, М.В,Кудрявцева и Э.И.Лавут (53) о21.386(088.8) (56) 1. Патент США Ф 2878384, кл. 250-80, опублик. 1959.

2. Авторское свидетельство СССР

Р 322863, кл. Н 05 В 33/14, 1968 (прототип). (54) (57) РЕНТГЕНОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ ЭКРАН, выполненный в виде конденсаторной структуры, содержащей нанесенные на металлическую подложку слои выполненноro из стекла диэлектрика, люминофора и прозрачного электрода, отличающийся тем, что, с целью повышения чувствительности и упрощения технологии изготовления, в стекло диэлектрика введена двуокись титана в количестве 40-60Х по массе.

1115110.

403 T>Og

507. Т102

60Х TiOg

Прототип

0,16

0,18

0,12

0,03

8HHHGH Эаказ 6 8 8 ТиРаж 413 ПоДписное

Филиал ППП Патент, r.Ужтород, ул.Проектная, 4

Изобретение относится к рентгенотехнике, а именно к рентгеночувствительным экранам для преобразования рентгеновского излучения в видимое изображение. 5

Известен рентгеночувствительный экран запоминающего типа, содержащий многослойную структуру, включающую прозрачный электрод, фотопроводящий слой, частично непрозрачный слой, 10 электролюминесцентный слой, проводящую пленку и подложку (11.

Недостатком известного экрана является относительно невысокая рентгеночувствительность. !5

Наиболее близким техническим решением к предлагаемому является рентгеночувстпительный экран, выполненный в виде конденсаторной структуры, содержащий нанесение на металлическую 20 подложку первый слой выполненного из стекловидной эмали диэлектрика, второй слой диэлектрика, слой люминофора, третий cJIoA äèýëåêòðèêà и прозрачный электрод С23. 25

Недостатки известного технического решения заключаются в малой рентгеночувствительности, сложной технологии изготовления, требующей

Многократного обжига экрана. 30

Цель изобретения — повышение чувствительности и упрощение технологии изготовления.

Поставленная цель достигается тем, 1 что в рентгеночувствительном экране, выполненном в виде конденсаторной структуры, содержащей нанесенные на металлическую подложку слои выполненного из стекла диэлектрика, люминофора и прозрачного электрода, в стек-40 ло диэлектрика введена двуокись титана в количестве 40-60Х по массе, Рентгеночувствительный экран содержит нанесенные на металлическую подложку первый слой диэлектрика, 45 состоящий из стекла марки P-45 (состав стекла, мас.Ж: SiO - 15,0; Ti0 2,0; В О> — 40,0; ЯЬ 05 0,2; СаО

4,0; CaF — 4,0; Zn0 — 17,0; Li>0—

2,0; Na 0 — 8,0; К дΠ— 8, О) и 4 0-607. по массе двуокиси титана (TiOg), второй слой люминофора и проводящий слой в виде прозрачного электрода из SnO .

Экран изготавливают следующим обРазом.

Стекло :арки P-45 и TiO â соответствующих количествах размалывают в шаровой мельнице в среде бутилового спирта. Полученный шликер наносят на остальные пластины, подготовленные обычным образом под эмалирование, путем пульверизации или электрофореза. После просушивания осуществляют обжиг при 640-660 С в течение 1

2 мин. Толщина полученного слоя составляет 25-50 мкм.

Для получения люминофорного слоя люминофор "Экран" состава ZnS ° CdS Ип смешивают с тонкоразмолотым стеклом

P-45, выполняющим роль приплавочной добавки, в количественном отношении 1:0,4. Слой наносят на слой диэлектрика методом пульверизации или седиментации, высушивают и обжигают при 640-660 С в течение 1-2 мин.

Толщина люминофорного слоя составляет 10-15 мкм.

Для получения прозрачного электрода на горячую поверхность люминофорного слоя наносят пульверизацией водный раствор БпС1ц 5НдО до образования пленки золотистого цвета (сопротивление в диапазоне 500—

1000 Ом/см).

Оптимальное количество TiO,ââîдимого в слой диэлектрика с целью увеличения его диэлектрической проницаемости с 5-7 до 25-29, составляет 40-60Х. Нижняя граница диапазона обусловлена степенью увеличения диэлектрической проницаемости слоя, а верхняя граница — возможностью образования сплошного беспористого сл зя.

Полученные экраны характеризуются следующей рентгеночувствительностью (нит/рентген) по сравнению с прототипом:

Экран по изобретению,Таким образом, изобретение обеспе-. чивает повышение рентгеночувствительности экрана, уменьшение количества формируемых слоев и, соответственно, количества технологических операций при его изготовлении.