Устройство для очистки направленной кристаллизацией

 

1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ НАПРАВЛЕННОЙ КРИСТАЛЛИЗАЦИЕЙ, вклю чающее корпус с соосно размещенным с ним устройством для нагрева исходного продукта и с расположенным с его внешней стороны устройством для охлаждения, штуцеры подвода и отвода исходного и готового продукта , отличающееся тем, что, с целью повышения чистоты гоtOBoro продукта, устройство для нагрева выполнено в виде закрытого сверху вертикального цилиндра с винтовыми нарезками на внешней поверхности и с равномерно расположенными по высоте внутренними нагревательными элементами, при этом внутрен-г няя поверхность корпуса выполнена оребренной, а внешняя снабжена устройствами для плавления и чередующимйся с ними дополнительными устройствами для охлаждения.

СО}ОЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК ц51} В 01 0 9/02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬГПФ (21 ) 3530141/23-26 (22) 03.01.83 . (46) 15.10.84. Бюл. 9 38 (72) A.P.Aðîíîâ, E.A.Басистов, Г.З.Блюм, A.Е.Голуб, Э.В.Гошева, А.A.ÅÔðåìoâ, Т.Н.Козлова, T.Á.Hàéда, Г.И.Смолицкая, Б.И.Сорокин и B.В.Суворов (53) 66.065.52 (088.8) (56) 1.Авторское свидетельство СССР

Р 572287,кл. 0 30 В 11/00,1977 (прототип).

:(54 )(57 ) 1 . УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ

НАПРАВЛЕННОЙ КРИСТАЛЛИЗАЦИЕЙ, включающее корпус с соосно размещенным с ним устройством для нагрева исходного продукта и с расположенным

„„SU„„A с его внешней стороны устройством . для охлаждения, штуцеры подвода и отвода исходного и готового продукта, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения чистоты готового продукта, устройство для нагрева выполнено в виде закрытого сверху вертикального цилиндра с винтовыми нарезками на внешней поверхности и с равномерно расположенными по высоте внутреннйми нагревательными элементами, при этом внутрен-. няя поверхность корпуса выполнена оребренной, а внешняя снабжена устройствами для плавления и чередующи,мися с ними дополнительными устройствами для охлаждения.

1118367

2. Устройство по п. 1, о т л и— ч а:ю щ е е с я тем, что оно снабжено прикрепленньщ к верхней части цилиндра устройством для распределения исходного продукта.

Изобретение относится к устройствам для получения веществ высокой степени чистоты и может быть использовано для очистки веществ кристаллизацией. 5

Известно устройство для очистки веществ направленной кристаллизацией, включающее цилиндрический корпус, устанбвленный горизонтально с приводом вращения вокруг горизонтальной оси и с устройством для нагрева исходного продукта, расположенным по его оси, устройство для охлаждения, штуцеры подвода и отвода исходного и готового продукта.

В случае, когда исходный материал представляет собой жидкость, требуется охлаждать корпус снаружи, обес., печивая на стенках температуру ниже, чем температура кристаллизации жидкости 313. 20

Недостатком укаэанного устройства является снижение во времени степени очистки при постоянном коэффициен те распределения за счет накапливания примесей в жидкой фазе, которая в течение всего процесса очистки контактирует с твердой фазой.

Целью изобретения является повышение чистоты готового продукта.

Поставленная цель достигается

30 тем, что устройство для очистки направленной кристаллизацией, включающее корпус с соосно размещенным с ним устройством для нагрева исходного продукта и с расположенным с его внешней стороны устройством для охлаждения, штуцеры подвода и отвода исходного и готового продукта, выполнено в виде закрытого сверху вертикального цилиндра с винтовыми 40 нарезками на внешней поверхности и с равномерно расположенными по высоте внутренними нагревательными элементами, при этом внутренняя поверхность корпуса выполнена оребренной, а внешняя снабжена устройствами для плавления и чередующимися с ними дополнительными устройствами для охлаждения.

Кроме того, устройство снабжено прикрепленным к верхней части цилиндра устройством для распределения исходного продукта, а также уст3. Устройство по п. 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что оно снабжено устройством для возврата жидкости, стекающей nî кристаллам. ройством для возврата жидкости, стекающей. по кристаллам.

На фиг.1 изображено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг.2 — то ,же, вид сверху.

Устройство включает корпус 1 с оребренной поверхностью 2 и,чередую.щимися между собой устройствами для охлаждения 3 и устройствами для плавления 4, устройство для нагрева 5 с устройством для распределения б исходного продукта и с винтовыми нарезками 7 и внутренними нагревательными элементами 8. В верхней части корпуса находятся штуцер 9 для подачи исходного продукта и штуцер 10 для отвода легколетучих примесей, в нижней части — штуцер 11 для слива кубового остатка, штуцер 12 для отбора целевого продукта и штуцер 13 для отвода. жидкости, стекающей по кристаллам, в устройство 14 для возврата этой жидкости на устройство для нагрева 5, выполненное в виде вертикального цилиндра.

Устройство работает следующим образом..

Исходная жидкость через штуцер 9 и распределительное устройство б поступает на обогреваемое внутренними элементами 8 устройство для нагрева 5, по винтовым нарезкам 7,.стекает вниз, частично испаряясь, и в виде пара попадает на охлаждаемую оребренную поверхность кристаллизации 2. Пар непрерывно взаимодействует с поверхностью стекающей пленки, равномерное распределение которой йо поверхности кристаллизации обеспечивается оребрением, при этом в паро-, вую фазу переводятся легколетучие примеси, которые отбираются через штуцер 10 в вакуумную линию. Испарившаяся часть жидкости отбирается через штуцер 11..Жидкость, стекающая по кристаллам, непрерывно отбирается через штуцер 13 и устройством для возврата 14 подается на вертикальный цилиндр, снабженный многоэаходными винтовыми нарезками с шагом 3-5 мм и углом наклона 5-30 С

У обеспечивающими равномерное распре1118387 фив; 2

Составитель И.Ненашева

Техред И.Асталош Корректор M.Ëåoíòâê

Редактор А.Гулько

Заказ 7316/5 Тираж 681 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4 деление жидкости по поверхности вертикального цилиндра.

Посла образования кристаллического слоя определенной толщины пре- кращается подача исходного продукта и в устройства для плавления или, по крайней мере, в нижнее устройство для плавления псдается теплоноситель для постепенного оплавления снизу вверх всего кристаллического слоя, и через штуцер 12 отбирается

5 расплавленный целевой продукт.