Способ контроля за нанесением слоев многослойных ультрафиолетовых покрытий

 

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ЗА НАНЕСЕfflffiM СЛОЕВ MHOroCnofiMMX УЛЬТРА4 ЮЛЕТОШХ ПОКРЫТИЙ, заключающийся в том, что пропускают через наносимый слой монохроматическое излучение видимой области спектра, регист|рируют поток прошедшего излучения и прекращают нанесение слоя по достижении потоком заданной вет1чины, отличающийся тем, что, с целью повьшения точности и упрощения процесса контроля, излучение пропускают через слой, наносимый на подложку , а длину волны. Л к излучения, пропускаемого через наносимый слой, выбирают из соотношения ТГЛо Л., ()() 2flhCCOS Л.() где Ар - рабочая длина волны покрысл тия; п - показатель преломления слоя с высоким показателем преломления; II п показатель преломления слоя с низким покг.зателем преломления , п - показатель преломления подел ложки . si 00 СП о

1Л) <Ю

СООЗ СОЮЕТСНИХ

С»»»

РЕСПУБЛИН рц Я 0.1 В 11/06

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ГЮ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОЛИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ прошедшего иэлу.ения и прекращают нанесение слоя по достижении потоком заданной величины, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью повышения точности и упрощения процесса контроля, излучение пропускают через слой, наносимый на подложку, а длину волны. Л „ излучения, пропускаемого через наносимый слой, выбирают из соотношения

jib к

2В|.ссоэ где Л

Р (21) 3647217/25-28

22) 23.09.83 (46).23.05.85. Бюл. И 19 (72 ) Е,А.JIynawco, А.П.Овчаренко и И.Н,Шкляревский (71) Харьковский ордена Трудового

Красного Знамени и ордена Дружбы народов государственный университет им. А.М,Горького (53 );.681,4:531.7 (088,8 ) (56) 1 . Андрющенко В.В., Лисица М.П.

Контроль толщин слоев многослойников.

В кн.; Квантовая электроника, Киев, Наукова думка", т. 5 1971, с. 265280.

2, Крылова Т.Н, Интерференционные покрытия. Л., "Машиностроение", 1973 с. 145. (54) (57 ) СПОСОБ КОНТРОЛЯ 3А НАНЕСЕНИКИ СЛОЕВ МНОГОСЛОЙНЫХ УЛЬТРАФИОЛЕТОВЫХ ПОКРЫТИЙ, заключающийся в том, что пропускают через наносимый слой монохроматическое излучение видимой области спектра, регистрируют поток рабочая длина волны покрытия; показатель преломления слоя с высоким показателем преломления; показатель преломления слоя с низким показателем преломления; показатель преломления подложки»

tI57350

1 () i

Изобретение относится к измерительной технике и может быть исполь эовано для контроля технологических процессов нанесения зеркальных покрытий, предназначенных для работы 5 в ультрафиолетовой области спектра.

Известен способ контроля за на-.. несением слоев многослойных ультрафиолетовых (УФ ) покрытий, заключающийся в том, что пропускают через наносимый слой монохроматическое излучение видимой области спектра, регистрируют поток прошедшего иэдеи лия и прекращают нанесение очередного-слоя при достижении подарком про- О шедшего излучения заданной величи» ны Г) ) и $2), Недостатком известных способов является сложность его осуществления, вызываемая необходимостью замены 20 свидетеля после нанесения каждой пары слоев с высоким и низким показателямй преломления. Кроме этого, точность определения момента окончания процесса-нанесения слоя невысока 2 из-за неодинаковости условий осаждения слоев на чистую поверхность подложки свидетеля и поверх слоя, уже нанесенного на рабочую подложку.

Целью изобретения является упроще-30 иие процесса контроля и повышение его точности.

Укаэанная цель достигается тем, что согласно способу контроля за нанесением слоев многослойных ультра-З фиолетовых покрытий, заключающемуся в том, что пропускают через наносимый слой монохроматическое излучение видимой области спектра, регистрируют поток прошедшего излучения и прекра- щв щают нанесение слоя по достижении потоком заданной величины, излучение пропускают через слой, наносимый на рабочую подложку, а длину волны Л излучения, пропускаемого через нано- 4 симый слой, выбирают из соотношения где 3 - рабочая длина волны покрытиями п показатель преломления слоя с высоким показателем преломления в - показатель преломления слоя с низним показателем преломления; показатель преломления подложки, Нри укаэанном выборе длины волны результат многолучевой интерференции волн на выходе многослойного покрытия не зависит от числа пар слоев с высоким и низким показателями преломления, аоетавляющих покрытие.

Для доказательства данного утверждения рассмотрим формулу для интенсивности l излучения, прошедшего многослойное покрытие (q-R) (1-R) + Фйэр

2 где I - интенсивность падающего излучения;

Р - коэффициент отражения на границе между слоями с низким и высоким показателями преломления;

V- разность фаэ интерферирую-.. . щих лучей.

Разность фаэ Ч интерферирующих лучей определяется равенством: Ч=

= 2(d iP), где о скачок фазы излучения на границе слоя, à p — число полуволн, укладывающихся в толщине слоя с низким показателем преломления.

Учитывая, что

2nnn„(n+п ) nin TIin

И -A h +A — tl +О П -И СО&7)Ъ легко доказать, что при выполнении равенства () ) правая часть равенства (2 принимает постоянное значение, ) т.е. пропускание покрытия не зависит от числа пар входящих в него . слоев.

Контроль за нанесением слоев мно гослойного УФ-покрытия осуществляется следующим образом, Через рабочую подложку с нанесенным на нее слоем пропускают монохроматическое излучение видимой области спектра с длиной волны h, определяе мой из соотношения (I ). Регистрируют величину потока излучения, прошедшего наносимый слой, и прекращают нанесение слоя при достижении потоком прошедшего потока величины, соответствующей расчетному потоку на выходе

Составитель М,Семчуков

Техред И.Асталош Корректор М.Пожо

Редактор С.Патрушева

Заказ 3325/38 Тираж 651 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР ца делам изобретений и открытий. 113035, Москва, Ж-.35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r Ужгород, ул. Проектная, 4

3 системы подложка — четвертьволновый для 3„ слоя с показателем.преломления - воздух.

Применение предлагаемого способа контроля за нанесением слоев многослойных УФ-покрытйй позволяет изба

1157350 ф виться от необходимости вести контроль по свидетелю, заменяемому после нанесения каждой пары слоев, что прйводит к существенному упрощению процесса контроля и повышению его точности