Устройство для плазменной обработки диэлектрических материалов


H05H1 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

 

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (5!) 5 Н 05 Н 1/00

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 3513034/25 (22) 19,10.82 (46) 30.04.93. Бюл. N 16 (71) Томский инженерно-строительный институт (72) Г.Г, Волокитин, B,Ê, Чибирков, С.В. Соловьев, А,С. Аньшаков и P.Î, Дедюхин (56) Рыкалин Н.Н. Применение низкотемпературной плазмы в технологии строительных материалов. — Строительные материалы, 1972, N.. 1, Авторское свидетельство СССР й. 733231, кл, Н 05 Н 1/00, 1979.

Изобретение относится к плазменной технике и используется для термической обработки строительных диэлектрических материалов, например для получения защитно-декоративных покрытий.

Цель изобретения — увеличение ресурса работы устройства за счет снижения эрозии анода.

На чертеже изображено предлагаемое устройство.

Устройство из катодного узла, включающего катод 1 и сопло-анод 2 дежурной дуги, анодного узла, содержащего анод 3, привод

4 анода, токоподвод 5, установленные на основании 6. закрепленном на шарнире 7, и п одлож коде ржателя 8 с об рабаты ваем ым образцом 9 материала.

Устройство работает следующим образом. Постоянный ток величиной, например, 100-400 А, подается на электроды 1 и 3. Для возбуждения рабочей дуги угол наклона анодного узла 0 поворотом основания 6 на шарнире 7 устанавливают 45", при этом снижается расстояние между ка — îäîì и анодом и соответственно облегчается ионизация

„„KU „„1 158021 А1 (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ

ОБРАБОТКИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ, содержащее катодный и анодный узлы, расположенные по обе стороны от подлсжкодержателя, с т л и ч а о щ е е с я тем, чго. с целью увеличения ресурса работы устройства за счет снижения эрозии анода, анодный узел установлен подвижно н шарнире с возможностью изменять угол наклона оси ансдного узла к поверхности подложкодержателя в пределах 20 45, дежурной дугой, питаемой пониженным током (40 А) межэлектродногс пространства.

После возбуждения рабочей дуги анодный узел устанавливается оператором в рабочее положение (a =20 ), затем в зону обработки по подложкодержателю 8 подается образец

9 обрабатываемого материала, Графитовый электрод — анод 3 — по мере расхода автоматически подается приводом

4, после полного сгорания электрод заменяется новым.

Нижний предел установки анодного узла под углом 20 к подлсжкодержателю обусловлен наименьшей при этом эрозией анода. При дальнейшем уменьш нии угла наблюдается срыв дуги, Угол установки анодного узла под углом

45 к подложкодержателю обусловлен наи— более благоприятными условиями зажигания основного разряда дежурной дугой при наименьшем токе разряда 40 А, что снижает, в свою очередь, эрозию сопла-анода 2 дежурной дуги. Угол 45 обеспечивает наименьшее межэлектрсдное пространство ос1158021

Составитель Г. Волокитин

Редактор О, Кузнецова Texpep, M.Моргентал Корректор A. Моть.ль

Заказ 1970 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва. Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагагина. 101 новного разряда, чем обусловлена легкость возбуждения основного разряда.

Положительным аффектом, достигаемым при использовании данного изобретения, является увеличение ресурса работы устройства и уменьшение расхода материала расходуемого электрода-анода.

Устройство для плазменной обработки диэлектрических материалов Устройство для плазменной обработки диэлектрических материалов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться при создании ловушек заряженных частиц или плазмы для удержания последних

Изобретение относится к электротехнике, а именно к дуговым устройствам (плазмотронам), используемым для нагрева газов до высоких температур с помощью электрической дуги, и может применяться в металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах в частности при разделительной резке металлов, сварке и плазменно-технической обработке

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки

© Патентный поиск, поиск патентов на изобретения - FindPatent.RU 2012-2024
Политика конфиденциальности 2013-03-31T14:36:42
Наверх