Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле

 

Лв 122821

Класс 21g 13зо

21go, 29..п

СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

И. H. Зайдель, В. А Меркулов и В. В. Смирнов

С!10СОБ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ФОТОЗЛЕКТРОННЫХ

ПРИБОРОВ С ПОЛУПРОЗРАЧНЫМ ИЛИ НЕПРОЗРАЧНЫМ

КАТОДОМ НА СТЕКЛ" И УСТРОЙСТВО

ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Заявлено 26 июня 1968 г. за ¹ 502694 26 в Комитет по делам изооретений и открытий при Совете Министров СССР

Опубликовано B (Г>юллетене изобретений» ¹ 19 за 1969 г.

Предлагается способ вакуумной обработк:l фотоэлектронных приборов с полупрозрачным пли непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствляющее вещество (например, цезий) распыляют на стенки прибора или ампулы с последующим нанесением его на катод, и устройство для осуществления этого способа, позволяющее производить этот процесс на многопозиционном откачном полуавтомате. 1звесте11 способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с сурьмяно-цезиевым катодом на стекле, при котором цезий получают нагревом одной таблетки его солей, заключенный в припаянной к прибору стеклянной ампуле, а толщину слоя сурьмы при ее напылении контролируют по исчезновению свечения нити лампы накаливания, за которой наблюдают через напылясмый слоГ llëè па глаз по цвету напыляемого слоя. Такая технология не обеспе швает точной дозировки цезия, так как выход цезия из различных таблеток различен и приводит к значительной неравномерности толщины слоя сурьмы. Поэтому обработку сурьмы цезием (формирование катода) приходится вести в течение времени, различного для приборов одного и того же типа. Повышение чувствительности катода осуществляется пуском в прибор кислорода через систему порционных кранов илн капилляров. Все эти операцин выполняются на стационарных откачных постах, так как известные откачные полуавтоматы не обеспечивают получение необходимого давления, а известные способы вакуумной обработки фотоэлектронных приборов не позволяют механизировать этот процесс.

По предлагаемому способу вакуумная обработка фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле производится следующим образом. Очувствляющее вещество (например) цезий) получают нагревом нескольких таблеток солей этого вещества, ¹ (22821 закл10ченных В Обо!!ме, наход>!ьцейсЯ в стекляннои амп Уле или B приборе, а напыление вещества катода (например, сурьмы) производят при непрерывном контроле толщины напыляемого слоя электронным прибором. При этом достигается необходимая стабильность выхода цезия и строго определенная толщина слоя сурьмы, что позволяет обработку сурьмы цезием (формирование катода) осуществлять прогревом в печ 1 в 1ечсние времени, постоянного для всех приборов данного типа и выбранного так, чтобы световая чувствительность катода достигала наибольшей величины. Чувствительность катода повышают впуском в прибор через клапан-дозатор определенной порции воздуха.

Описываемый способ вакуумной обработки осуществляется на многопозиционном откач ном полуавтомате с подвижными пароструйными насосами, отличающимся 01 известных тем, что на каждой позиции полуавтомата между пароструйным насосом и гнездом карусели внутри соединяющего их трубопровода установлены охлаждаемая ловушка, наполненная жидким азотом, и клапан-дозатор.

На фиг. 1 изображена схема одной ячейки полуавтомата; на фиг. 2 — конструкция устройства для пуска доз воздуха.

Гнездо 1 соединено через вакуумные уплотнения 2 с насосом 3, трубопроводом 4, служащим одновременно корпусом ловушки, в котором укреплен клапан-дозатор 5. Жидкий азот заливается в стакан 6 через трубку 7. Клапан-дозатор состоит из корпуса 8, закрытого крышкой 9, укрепленной в корпусе ловушки 10. При нормальном положении клапана 11 пружина 12 прижимает его к верхней резиновой прокладке 1 3, и воздух не попадает в корпус ловушки. При нажатии на ручку 14 клапана он прижимается к нижней прокладке 15, и воздух, проходя между крышкой и стержнем клапана, заполняет зазор между корпусом и клапаном. Когда клапан, возвращаясь в нормальное поao>rcenlle, вновь пр1:жимается к верхней прокладке, порция воздуха, находившаяся межд клапаном и корпусом, входит в откачную систему.

Электронный прибор для непрерывного контроля толщины nanblляе»oro слоя сурьмы устанавливается на той позиции полуавтомата, где должно быть закончено распыление сурьмы. Прибор состоит из газонаполненной стробоскопической лампы, посылающей с частотой 50 cl(световые импульсы длительность1о около 100 я1к сек. и энергией около

0,5 дж, фотоэлемента и усилителя. Световые импульсы проходят через наг1ыляемый слой и попадают на фотоэлемент, ток которого уменьшается по мере увеличения толщины слоя, что приводит к срабатыванию нсполшпельного устройства и прекращению напыления по досгижении

3 I Iaíí0é вели 1ин1.1 c.lion. Изобретение может obITb испол ьзов;1 но механизации вакуумной обработки фотоэлектронных приборов.

Предмет изобретения

1. Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с пол, прозрачным или непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствлгпощее вещество (например, цезий) распыляют на стенки прибора или ампулы с последующим нанесеш.ем его па катод, отличающийся тсм, что, с целью стабилизации выхода очувствляющего вещества и механизации процесса вакуумной обработки приборов, очувствляющее вещество получают нагревом заключенных в обойме нескольких таблеток солей этого вещества, вещество катода (Ilaiipniiep, сурьму) нап i;Isno на стенки колбы при непрерывном контроле толщины напыляемого слоя электронным прибором, катод формируют прогревом в печи в течени" времени, постоянного для всех приборов данного типа, и чувствительность катода повыша1от впуском в прибор через клапан-дозатор определенной порции воздуха.

¹ 122321 . Устроиство для осуществления способа по п. 1, представляющее собой многопозиционный откачной полуавтомат с подвижными па ос руйными насосами, о т л и ч à ю щ с е с я тем, что, с целью повышения вакуума и автоматизации процесса вакуумной обработки приборов, на каждой позиции полуавтомата между пароструйным насосом и гнездом карусели внутри соединяющего их трубопровода установлены охлаж даемая ловушка и клапан-дозатор.

3. В ст щего устройстве по п. 2 применение электронного прибора со. из импульсного источника света, фотоэлемента и усилителя, с целью непрерывного контроля толщины напыляемого слоя.