Способ получения кристаллов германия

 

1. Способ получения кристаллов германия из расплава, включающий введение в расплав основной легирующей примеси и дополнительной легирующей примеси с последующим выращиванием кристаллов, отличающийся тем, что, с целью повышения однородности распределения удельного сопротивления в объеме кристаллов и снижения концентрации точечных дефектов в них, в качестве дополнительной примеси берут элементарные свинец, олово, индий или их смеси.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что олово или свинец вводят в количестве 1018 - 1020 см-3.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что при получении кристаллов германия, содержащих основную легирующую примесь в количестве более 3 1017 см-3, индий вводят в количестве 1018 - 3 1020 см-3. Изобретение относится к электронной и металлургической промышленности, в частности к производству полупроводниковых материалов. Цель изобретения повышение однородности распределения удельного сопротивления в объеме кристаллов и снижение концентрации точечных дефектов в них. П р и м е р 1. Выращивали кристаллы германия методом Чохральского на стандартной установке П-17 в атмосфере аргона. Направление выращивания было [III] скорости выращивания, вращения кристалла и тигля были равны соответственно: 3 мм/мин, 60 мм/мин, 10 мм/мин. Шихта во всех экспериментах состояла из 200 г германия, содержащего основную легирующую примесь и дополнительную примесь (примеси). Их вводили в элементарном виде. Выращивали кристаллы весом 2/3 от массы шихты диаметром приблизительно 20 мм. В шихту, содержащую сурьму, дополнительно вводили свинец. Было выращено три группы кристаллов с различной концентрацией свинца и сурьмы в тигле. В первой группе концентрации сурьмы и свинца были соответственно 11017 и 51018 см-3, во второй 11017 и 11019 см-3, в третьей 31017 и 11020 см-3. Было выращено также два кристалла из расплава, содержащего только сурьму с концентрацией в шихте 11017 см-3. На полученных кристаллах определяли: концентрацию электрически активной сурьмы по измерению эффекта Холла CISb, концентрацию точечных дефектов (дефектов недислокационного типа) Сд и разброс удельного сопротивления в верхнем и нижнем поперечных сечениях кристаллов и по их длине в процентах. Сд определяли травлением стандартном травителе для выявления дислокаций по ГОСТУ 16153-80. Удельное сопротивление измеряли четырехзондовым методом по ГОСТ 24393-80. На кристаллах, особенно сильно легированных, с помощью рентгеновской топографии или металлографическим анализом определяли концентрацию мелкодисперсных включений Свк. Указанные измерения были выполнены на кристаллах, полученных во всех примерах. У кристаллов первой и второй групп Сд 0, разброс r в поперечных сечениях 3% по длине 15% у кристаллов третьей группы Сд 102 см-2, разброс удельного сопротивления такой же, как у первых двух групп. У кристаллов, выращенных из расплава, содержащих только сурьму, разброс r 7%,, а по длине 30% Кристаллы, выращенные из расплава с концентрациями сурьмы 11017 и свинца 51020 см-3, имели Сд 5102 см-2, разброс в поперечном сечении 8% по длине 24% П р и м е р 2. Выращивали кристаллы германия из расплава, содержащего мышьяк. Условия выращивания были, как в примере 1. В шихту дополнительно вводили олово. Было выращено три группы кристаллов с различными концентрациями мышьяка и олова. Кристаллы первой группы выращивали из расплава, содержащего мышьяк и олово с концентрациями соответственно 51016 и 31018 см-3, во второй группе мышьяка 11017, олова - 11020 см-3 и в третьей: мышьяка 51016, олова 1019 см-3. У всех кристаллов Сд 0, разброс r в поперечном сечении 3% а по длине у кристаллов первой и второй группы 12% в третьей приблизительно 10% у кристаллов, выращенных из расплава, содержащего мышьяк 1017 и висмут 1019 см-3, разброс r в поперечном сечении 7% по длине 25% У полученных кристаллов измеряли концентрацию кислорода оптическим методом. Эталоном был германий марки ГЭС 40 с концентрацией 21016 см-3. Концентрация кислорода в кристаллах всех трех групп была 41014 см-3. Концентрация кислорода в кристаллах, полученных в примере 1, была ничтожна (полоса, свойственная кислороду, не была выявлена). П р и м е р 3. Выращивали кристаллы германия из расплава, содержащего мышьяк. Условия выращивания были, как в примере 1. В шихту дополнительно вводили индий и олово в элементарном виде. На полученных кристаллах измеряли те же параметры, что в примере 1. Было выращено четыре группы кристаллов с различными концентрациями мышьяка, индия и олова в шихте. В первой группе мышьяка, индия и олова были соответственно 21018, 11018, 11020 см-3, во второй 21019, 51018, 1018 см-3, в третьей 21019, 11020, 51018 см-3. В четвертую группу входили кристаллы, выращенные из расплава, легированного только мышьяком с концентрацией 21019 см-3. У кристаллов первых трех групп Cд 0, разброс r в поперечном сечении 3% по длине не более 15% Свк 0, концентрация электронов была в 1,5 2,5 раза больше, чем в кристаллах четвертой группы. У последних кристаллов Свк 102, разброс в поперечном сечении 6, по длине 23% Свк 102 см-2. П р и м е р 4. Выращивали кристаллы германия, легированные галлием, в условиях, описанных в примере 1. Галлий вводили в шихту в элементарном виде с концентрацией 81019 см-3 и дополнительно элемент индий с концентрациями 51018, 11019 см-3. У полученных кристаллов разброс r в поперечном сечении 3% по длине 10% Свк 0, Сд 0. У кристаллов, легированных галлием до такой же концентрации Cвк 102 см-2, Cд 0, разброс r3096 в поперечном сечении 5, а по длине 15% П р и м е р 5. Выращивали кристаллы германия, легированные сурьмой в условиях, описанных в примере 1. Концентрация сурьмы в расплаве во всех случаях была 1019 см-3. В шихту (расплав) дополнительно вводили индий и свинец. Концентрация свинца была 51018, 1019 и 51020 см-3, а индия 51018 см-3. У кристаллов германия, выращенных из расплавов с концентрациями свинца 51018, 1019 см-3, Cд 0, Cвк 0, разброс удельного сопротивления в поперечном сечении 3% по длине приблизительно 10% а в случае концентрации свинца 1019 см-3 6% Концентрация сурьмы (электронов), измеренная по эффекту Холла, была в 1,8 раза больше, чем при легировании только сурьмой.

Формула изобретения

1. Способ получения кристаллов германия из расплава, включающий введение в расплав основной легирующей примеси и дополнительной легирующей примеси с последующим выращиванием кристаллов, отличающийся тем, что, с целью повышения однородности распределения удельного сопротивления в объеме кристаллов и снижения концентрации точечных дефектов в них, в качестве дополнительной примеси берут элементарные свинец, олово, индий или их смеси. 2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что олово или свинец вводят в количестве 1018 1020 см-3. 3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что при получении кристаллов германия, содержащих основную легирующую примесь в количестве более 3 1017 см-3, индий вводят в количестве 1018 3 1020 см-3.

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 36-2000

Извещение опубликовано: 27.12.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов вольфрамата свинца (далее PWO), и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов, применяемых в детекторах ионизирующих излучений высоких энергий, работающих в условиях высоких дозовых нагрузок в трактах регистрации, требующих высокого временного разрешения

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов вольфрамата свинца, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов, применяемых в детекторах ионизирующих излучений высоких энергий, работающих в условиях высоких дозовых нагрузок в трактах регистрации, требующих высокого временного разрешения

Изобретение относится к области выращивания монокристаллов кремния, в частности к выделению отдельных частей слитков монокристаллов, в которых концентрация примеси углерода имеет заданные значения

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов вольфрамата свинца, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов

Изобретение относится к производству кремния, легированного сурьмой, широко применяемого в качестве подложек для эпитаксии

Изобретение относится к производству полупроводниковых слитков и пластин, в частности кристаллов кремния с циклической двойниковой структурой

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов лютеций-иттриевого алюмината, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов, применяемых в детекторах ионизирующих излучений в медицинской диагностирующей аппаратуре

Изобретение относится к способам выращивания монокристаллов соединений, обладающих высокой упругостью паров над расплавом в условиях роста при нормальном атмосферном давлении методом Чохральского

Изобретение относится к изготовлению легированных монокристаллов или поликристаллов кремния, применяемых в производстве солнечных батарей (модулей), интегральных схем и других полупроводниковых устройств
Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов для пассивных лазерных затворов, используемых в современных лазерах, работающих в ИК-области спектра

Изобретение относится к производству, для управления процессом выращивания монокристаллов из расплава по методу "Чохральского" и может быть использовано в полупроводниковом производстве, для получения монокристаллических слитков германия
Изобретение относится к способам выращивания из расплава монокристаллов германия

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов германия

Изобретение относится к выращиванию из расплава легированных монокристаллов германия в температурном градиенте с использованием нагревательного элемента, погруженного в расплав

Изобретение относится к выращиванию из расплава легированных монокристаллов германия в температурном градиенте с использованием нагревательного элемента, погруженного в расплав, в условиях осевого теплового потока вблизи фронта кристаллизации - методом ОТФ
Наверх