Способ нанесения шликера эмали на трубу

 

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН

А1 (51)4 С 23 D 5/02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А BTOPCHGMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Ц;

f (Тимс где тикс

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPblTMA (21) 3852053/22-02 (22) 31.01.85 (46) 30.08.86. Вюл, Р 32 (71) Всесоюзный научно-исследовательский институт по строительству магистральных трубопроводов и Республиканский государственный институт по проектированию объектов производственной базы водохозяйственных организаций "Росгипроводпром" (72) В.Б.Ковалевский, В.С.Кунцевич, А.Е;Иакеев, А.А.Сиротинский и А.Н.1орченко (53) 666.293(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

У 1052564, кл. С 23 D 5/00, 1978. (54) (57) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ СПИКЕРА

ЭИАЛИ НА ТРУБУ путем погружения в шликер и удаления из него при непрерывном пннжении шликера и поддержи„„SU,„, ЮЫОИ вания уровня шликера в емкости по- е стоянным, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества нанесенного слоя шликера за счет повышения равномерности, дополнительно шликер подают струями в емкость на расстоянии от верхнего уровня поверхности шликера, опреде- ляемом формулой расстояние от уровня поверхности до зоны разрушения структурного режима течения шликера; время, в течение которого восстанавливается структурный режим течения шликера скорость движения шликера в емкости, 1 1254055

30 ((р

Тикс

Изобретение относится к нанесению вяэкопластичных жидкостей„ в частнос ти шликера эмали ня обе поверхности трубы погружением, и может быть использовано в различных отраслях хо- 5 зяйства, где требуются трубы с двухсторонним эмалевым покрытием.

Целью изобретения является улучшение качества нанесенного слоя шликера эа счет повышения равномерности.

На чертеже приведена схема осуществления способа.

Предлагаемый способосуществляют с помощьюустройства,состоящего из емкости i,çàïoëíåêíîéøëèêåðîì 2и соединенной посредствомтрубопроводов 3 с реактором 4и насосами 5 и 6,нричем насос 6 имеет меньшую производительность, чем производительность цирку- 20 лярного Насоса 5. Насос 6 соединен с помощью трубопроводов 7 с емкостью

1 и реактором 4. В емкости f размещен вытеснитель 8, а в верхней части емкости l — приемный сборник 9. На 25 стенках емкости 1 и вытеснителя 8 шликера на расстоянии l от поверхности размещены коллекторы 10 для подачи шликера струями к внутренней и наружной поверхностям трубы 11.

Трубу Ф 300 мм с толщиной стенки

4 мм погружают в емкость, заполненную шликером. При этом шликер в емкости непрерывно приводят в движение, подавая в емкость 1 насосом 5 через коллекторы 10, расположенные вблизи поверхности на расстоянии I . от поверхности шликера, шликер, заполняя емкость, переливается через верхний край в приемный сборник 9, иэ которого самотеком но опускным трубам поступает в реактор 4, где его перемешивают и опять насосом 5 подают в емкость 1 для нанесения. Таким образом, емкость 1 для нанесения шликера является составной частью циркуляционного контура, в котором шликер находится в непрерывном движении °

Уровень шликера в емкости 1 для нанесения поддерживают постоянным, поскольку этот уровень образуется в результате перелива шликера через верхний край емкости 1, На расстоянии 1 от уровня поверхности шликера, определяемом соотноше55 нием где 1 — расстояние от уровня поверхности до эоны разрушения структурного режима течения шликера; время, в течение которого

1 восстанавливается структурный режим течения шликера, определяемое тиксотропными свойствами шликера, — скорость движения шликера в емкости, определяемая из конструктивных характеристик циркуляционного контура.

Струями иэ коллектора 10 подают шликер, непрерывно разрушая структурный режим течения шликера в емкости как в объеме, находящемся снаружи трубы, так и внутри нее. Расстояние < определяются в зависимости от тиксотропных свойств шликера по формуле, приведенной выше. Характеристиками тиксотролкых свойств шликера являются время ..., и скорость V движения шлихера в емкости.

В процессе извлечения трубы иэ емкости, заполненной шликером как на внутренней, так и на наружной поверхностях трубы остается слой шликера, образующийся в результате увлечения при движении трубы шликера, хорошо смачивающего ее поверхность.

При этом качество нанесенного на трубу слоя шликера, в частности, толщина и равномерность толщины, как показали исследования, зависят от состояния шликера вблизи уровня поверхности его в емкости для нанесения. Образующийся в результате тиксотропных свойств структурный режим течения шликера в емкости для нанесения разрушают, дополнительно непрерывно подавая шликер в емкость струями, но не на поверхность уровня шликера в емкости, а подавая дополнительно шликер струями в объем на некотором расстоянии (от поверхности шликера в емкости.

Пример. Трубу Ф 300 мм с толщиной стенки 4 мм, длиной 10 м погружали в емкость, заполненную шликером, и извлекали иэ емкости.

Шликер характеризовался следующими рабочими параметрами: тонина помола

2 мл/мин (по методу Лисенко), удель. ный вес l,7 г/см, консистенция

12 г/дм, Скорость извлечения трубы из емкости 10 м/мин.

1254055 чения покрыт, Предлагаемый способ позволяет получать равномерный слой шликера по всей поверхности трубы.

Составитель В.Олейниченко

Редактор Л.Повхан Техред М.Ходанич Корректор М.Максимишинец

Заказ 4690/31 Тираж 878 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производсвтенно-полиграфическое предприятие, г, Ужгород, ул. Проектная, 4

Расстояние коллекторов от поверхности шликера согласно формуле было выбрано равным f. ==25 мм при скорости движения шлихера в емкости, равной

У 15 мм/с, и времени восстановления структурного режима в течение для данного состава, равном .„„,= 3 с.

Согласно предлагаемому способу структурный режим течения шликера в поверхностном слое разрушают не движением стенок трубы, а струями шликера, т,е. создают стабильные условия для нанесения шликера как на начальном участке трубы, так и по всей ее поверхности. Это определяет боБ лее высокое качество нанесенного слоя шликера для последующего полу